TOP > 国内特許検索 > 気体分離膜

気体分離膜

国内特許コード P110001468
整理番号 2009-P09
掲載日 2011年1月20日
出願番号 特願2009-149894
公開番号 特開2009-208079
登録番号 特許第4474520号
出願日 平成21年6月24日(2009.6.24)
公開日 平成21年9月17日(2009.9.17)
登録日 平成22年3月19日(2010.3.19)
発明者
  • 永井 一清
  • 森里 敦
  • 野崎 貴司
出願人
  • 学校法人明治大学
発明の名称 気体分離膜
発明の概要

【課題】厚さが薄く、かつ、酸素窒素分離能に優れたオルガノポリシロキサン架橋膜を提供すること、また、厚さが薄く、かつ、酸素窒素分離能に優れたオルガノポリシロキサン架橋膜を容易に製造することができるオルガノポリシロキサン架橋膜の製造方法を提供すること。
【解決手段】多孔質支持体膜上にオルガノポリシロキサン架橋膜が設けられ、前記多孔質支持体膜の平均孔径が10nm以上250nm以下であり、前記オルガノポリシロキサン架橋膜が、ヒドロシリル基を2個以上有するオルガノポリシロキサンとビニル基を2個以上有するオルガノポリシロキサンとをヒドロシリル化触媒により反応させて形成した膜であり、前記オルガノポリシロキサン架橋膜の厚さが1μm以下であり、前記オルガノポリシロキサン架橋膜の常温における酸素/窒素分離係数が1.6以上であることを特徴とする気体分離膜。
【選択図】なし

従来技術、競合技術の概要


一般に気体分離膜は、多孔質支持体膜上に気体分離機能層を形成させて調製する。この際に、分離機能層を薄くして気体の透過速度(単位時間あたりの気体処理量)を多くする必要がある。しかし現在、気体分離膜として使用されているオルガノポリシロキサンは、1マイクロメーター未満の薄膜化が困難である(特許文献1及び2等)。




【特許文献1】特公平6-77673号公報

【特許文献2】特開平6-269649号公報

産業上の利用分野


本発明は、気体分離膜として好適に使用することができるオルガノポリシロキサン架橋膜及びその製造方法に関する。

特許請求の範囲 【請求項1】
多孔質支持体膜上にオルガノポリシロキサン架橋膜が設けられ、
前記多孔質支持体膜の平均孔径が10nm以上250nm以下であり、
前記オルガノポリシロキサン架橋膜が、ヒドロシリル基を2個以上有するオルガノポリシロキサンとビニル基を2個以上有するオルガノポリシロキサンとをヒドロシリル化触媒により反応させて形成した膜であり、
前記オルガノポリシロキサン架橋膜の厚さが1μm以下であり、
前記オルガノポリシロキサン架橋膜の常温における酸素/窒素分離係数が1.6以上であり、
前記オルガノポリシロキサン架橋膜が、式(I)で示される繰り返し単位を含有しないことを特徴とする
気体分離膜。
【化学式1】


(式中、Rはシクロアルキル基を表し、m及びnは各々独立に1以上の整数を表す。)

【請求項2】
ヒドロシリル基を2個以上有するオルガノポリシロキサンの重量平均分子量が1,500~8,000である請求項1に記載の気体分離膜。

【請求項3】
ビニル基を2個以上有するオルガノポリシロキサンの重量平均分子量が15,000~250,000である請求項1又は2に記載の気体分離膜。

【請求項4】
ヒドロシリル基を2個以上有するオルガノポリシロキサンがヒドロシリル基を2個以上有するジメチルポリシロキサンであり、ビニル基を2個以上有するオルガノポリシロキサンがビニル基を2個以上有するジメチルポリシロキサンである請求項1~3いずれか1つに記載の気体分離膜。

【請求項5】
前記オルガノポリシロキサン架橋膜の厚さが0.01μm以上0.7μm以下である請求項1~4いずれか1つに記載の気体分離膜。
産業区分
  • 混合分離
  • 無機化合物
  • 高分子化合物
国際特許分類(IPC)
Fターム
出願権利状態 権利存続中
掲載中の発明について更に詳しい内容の説明を御希望の際は、お気軽にお問い合せください。


PAGE TOP

close
close
close
close
close
close
close