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高濃度溶解水生成装置および高濃度溶解水生成システム 新技術説明会 実績あり

国内特許コード P110002075
整理番号 10041
掲載日 2011年3月31日
出願番号 特願2010-171016
公開番号 特開2011-056498
登録番号 特許第5682904号
出願日 平成22年7月29日(2010.7.29)
公開日 平成23年3月24日(2011.3.24)
登録日 平成27年1月23日(2015.1.23)
優先権データ
  • 特願2009-187468 (2009.8.12) JP
発明者
  • 鹿毛 浩之
  • 馬渡 佳秀
  • 山本 晶生
  • 伊田 能久
出願人
  • 国立大学法人九州工業大学
  • 有限会社イタケン
発明の名称 高濃度溶解水生成装置および高濃度溶解水生成システム 新技術説明会 実績あり
発明の概要 【課題】気体が原水に溶解するのに十分な接触を確保することで高濃度の溶解水を得ることができると共に、装置の大型化を抑制することができる高濃度溶解水生成装置および高濃度溶解水生成システムを提供する。
【解決手段】高濃度溶解水生成装置60は、導入口631aから取り入れられた原水に微細気泡を接触させて生成された溶解水が、排出口634aから取り出される筒状の気液接触槽63と、気液接触槽63への微細気泡を発生する気泡発生装置64と、気液接触槽63の上部に一端が接続され、下部に他端が接続され、気液接触槽63の溶解水が通水する循環路である溶解水送水管651と、溶解水送水管651に設けられ、気液接触槽の溶解水を循環させる循環ポンプ652とを備えている。気泡発生装置64からの微細気泡と気液接触槽63内で接触した原水は、循環ポンプ652により溶解水送水管651を周回して循環を繰り返すことで高濃度の溶解水となる。
【選択図】図2
従来技術、競合技術の概要


液体に気体を溶解させる装置では、効率よく溶解させることが要求される。特に、上水の浄化や下水の浄化を目的とした浄水処理システムでは、原水に気体としてオゾンガスを接触させて溶解させ、殺菌、脱色、脱臭を実現している。このような浄水処理システムとして、例えば特許文献1,2に記載されたものが知られている。



特許文献1の浄化供給方法と浄化供給システムには、溶解タンクの天井付近に水面に対して直角方向に設けられたノズルから、オゾンガスを混合させた原水を、ノズルの真下に略水平に設けた邪魔板に噴射して叩き付けることで、飛沫を多く発生させてオゾンガスを原水に溶解させるオゾン処理装置が記載されている。



また、特許文献2の分離注入式オゾン接触方法には、反応槽上部の導入口から、送水ポンプにより原水を導入し、同時にオゾン発生装置で発生させたオゾンガスを、散気装置を通し微細な気泡として反応槽内に注入することで原水に気泡(オゾンガス)を混合させて混合水とし、混合水が反応槽の下降溶解部を流下し、反応槽の底部を通り、上昇部を経て、排出口から浄化するための処理水として配水される下降溶解型オゾン処理装置が記載されている。

産業上の利用分野


本発明は、原水に気体を効率よく溶解させて高濃度の溶解水を生成することができる高濃度溶解水生成装置および高濃度溶解水生成システムに関するものである。

特許請求の範囲 【請求項1】
導入口から取り入れられた原水に微細気泡を接触させることで生成された溶解水が、排出口から取り出される筒状の気液接触槽と、
前記気液接触槽への微細気泡を発生する気泡発生装置と、
前記気液接触槽の上部に一端が接続され、下部に他端が接続され、前記気液接触槽の溶解水が通水する循環路と、
前記循環路に設けられ、前記気液接触槽の溶解水を、前記気液接触槽の下部から上部へ向かって循環させる循環ポンプとを備え
前記循環路の他端が接続された溶解水流入口と前記導入口とは、前記気液接触槽の内周面の円周方向に沿って水流が同方向に流れるように配置され、
前記気泡発生装置からの微細気泡を導入する吐出口が前記気液接触槽の下部の軸心位置に配置されていることを特徴とする高濃度溶解水生成装置。

【請求項2】
前記吐出口は、微細気泡を放出する位置が、前記導入口および溶解水流入口より高い位置に配置されている請求項記載の高濃度溶解水生成装置。

【請求項3】
前記気液接触槽が、導入側と排出側との間で並列に複数設けられ、
前記複数の気液接触槽の溶解水の通水量を制御する制御装置を備えた請求項1または2記載の高濃度溶解水生成装置。

【請求項4】
前記制御装置は、前記並列に設けられた気液接触槽内の溶解水を同時排出する請求項記載の高濃度溶解水生成装置。

【請求項5】
前記制御装置は、前記並列に設けられた気液接触槽内の溶解水を切り替えながら排出する請求項記載の高濃度溶解水生成装置。

【請求項6】
前記気液接触槽が、導入側と排出側との間で直列に複数設けられている請求項1または2記載の高濃度溶解水生成装置。

【請求項7】
前記気液接触槽には、排出される溶解水を貯留する貯留部が設けられている請求項1からのいずれかの項に記載の高濃度溶解水生成装置。

【請求項8】
前記請求項1からのいずれかの項に記載の高濃度溶解水生成装置と、
前記高濃度溶解水生成装置からの溶解水と前記高濃度溶解水生成装置を迂回させた原水とを混合する混合槽とを備えたことを特徴とする高濃度溶解水生成システム。
産業区分
  • その他無機化学
  • 混合分離
  • 処理操作
  • 衛生設備
国際特許分類(IPC)
Fターム
画像

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JP2010171016thum.jpg
出願権利状態 登録
詳細は、下記「問合せ先」まで直接お問い合わせください。


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