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光ファイバプローブ及びその製造方法 実績あり

国内特許コード P110002895
整理番号 E060P17
掲載日 2011年6月8日
出願番号 特願2001-248684
公開番号 特開2003-054994
登録番号 特許第3793435号
出願日 平成13年8月20日(2001.8.20)
公開日 平成15年2月26日(2003.2.26)
登録日 平成18年4月14日(2006.4.14)
発明者
  • 細野 秀雄
  • 平野 正浩
  • 大登 正敬
  • 栃谷 元
  • 大根田 進
  • 菊川 信也
出願人
  • 独立行政法人科学技術振興機構
発明の名称 光ファイバプローブ及びその製造方法 実績あり
発明の概要 真空紫外光および深紫外光を高透過率で伝播させることができ、また、紫外線照射による劣化が少なく、さらに、エッチングにより、光ファイバの先端部に所望の尖鋭部を形成する。光ファイバプローブ1は、光ファイバ2の先端部をエッチング液で尖鋭化して成る尖鋭部3を備えており、尖鋭部3の外周面には、遮光用の金属被膜4が設けられている。光ファイバ2は、コア5と、このコア5の外周に順次設けられるクラッド6a、保護層7および保護被覆層8とを備えている。コア5は、フッ素の含有量が100~1000ppmであるシリカガラスで形成され、クラッド6aは、フッ素の含有量が1000~7000ppmであるシリカガラス、またはホウ素の含有量が2000~10000ppmであるシリカガラスで形成されている。
従来技術、競合技術の概要
近時、いわゆる近接場光を検出する近接場顕微鏡が開発され、この近接場顕微鏡によって、細胞やDNA等の微小体を観察したり、破壊すること等が行なわれている。
【0003】
かかる近接場顕微鏡においては、測定すべき試料は逆三角形状の全反射プリズム上に配置され、この全反射プリズムには試料の裏面から試料表面で全反射条件を満たすように光が入射され、これにより試料の表面付近に近接場光と称する表面波が発生する。そして、この表面波の中に先端部が先鋭化されたプローブを差込むと、近接場光が散乱され、また、散乱光の一部がプローブ内に進入し、検出部材に導光される。これにより、試料からの光学情報がナノ・メーター・オーダーの分解能で測定される。
【0004】
従来、このような構成の近接場顕微鏡のプローブとしては、所定量のゲルマニウムを含有させたシリカガラスから成るコアの外周に、シリカガラスから成るクラッドを設けて成る光ファイバプローブが使用されていた。
産業上の利用分野
本発明は、真空紫外光および深紫外光を伝播させることができる光ファイバプローブ及びその製造方法に係わり、特に近接場顕微鏡のプローブとして好適する光ファイバプローブ及びその製造方法に関する。
特許請求の範囲 【請求項1】 光ファイバの先端部を尖鋭化して成る光ファイバプローブにおいて、
前記光ファイバは、フッ素の含有量が100~1000ppm、OH基の含有量が4~7ppmでかつ水素を含浸したシリカガラスから成るコアを備え、前記コアの外周にフッ素の含有量が1000~7000ppmであるシリカガラス、またはホウ素の含有量が2000~10000ppmであるシリカガラスから成るクラッドを備えることを特徴とする光ファイバプローブ。
【請求項2】 前記クラッドの外周に保護層を備えることを特徴とする請求項記載の光ファイバプローブ。
【請求項3】 前記保護層の外周に保護被覆層を備えることを特徴とする請求項2記載の光ファイバプローブ。
【請求項4】 請求項1記載の光ファイバの先端部を、エッチング液で尖鋭化することを特徴とする光ファイバプローブの製造方法。
【請求項5】 前記エッチング液は、2~46%の弗化水素酸水溶液であることを特徴とする請求項記載の光ファイバプローブの製造方法。
産業区分
  • 窯業
  • 高分子化合物
  • 治療衛生
  • 光学装置
国際特許分類(IPC)
Fターム
出願権利状態 権利存続中
参考情報 (研究プロジェクト等) ERATO 細野透明電子活性プロジェクト 領域
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