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金属ガラス及びそれを用いた磁気記録媒体並びにその製造方法

国内特許コード P110004422
整理番号 B37P20
掲載日 2011年7月13日
出願番号 特願2009-533165
登録番号 特許第5267884号
出願日 平成20年9月17日(2008.9.17)
登録日 平成25年5月17日(2013.5.17)
国際出願番号 JP2008066793
国際公開番号 WO2009038105
国際出願日 平成20年9月17日(2008.9.17)
国際公開日 平成21年3月26日(2009.3.26)
優先権データ
  • 特願2007-241595 (2007.9.18) JP
発明者
  • 牧野 彰宏
  • 井上 明久
  • 張 偉
  • 木村 久道
出願人
  • 独立行政法人科学技術振興機構
発明の名称 金属ガラス及びそれを用いた磁気記録媒体並びにその製造方法
発明の概要

金属ガラスが、下記式(1)~(3)の何れかで表される組成を有する。
FePtSi(ここで、20<m≦60原子%、20<n≦55原子%、11≦x<19原子%、0≦y<8原子%、0≦z<8原子%である。) (1)
Fe55Pt25(Si20(ここで、11≦x<19原子%、0≦y<8原子%、0<z<8原子%である。) (2)
(Fe0.55Pt0.25Si0.160.020.02100-x(ここで、0<X≦6原子%である。Mは、Zr,Nb,Ta,Hf,Ti,Mo,W,V.Cr,Mn,Al,Y,Ag,希土類元素から選ばれる1つ又はこれらの元素の組み合わせからなる元素である。) (3)
磁気記録媒体(1)は、基板(11)に複数の凹凸部(12B,12A)からなる金属ガラス層(12)を備えてなる。金属ガラス(12)は上記(1)式、(2)式、(3)式の何れかの組成からなる。

従来技術、競合技術の概要


近年、高度情報化社会の進展により大容量の画像情報記録へのニーズが高まり、平方インチ当り1テラビット(1Tb/inch)というような面記録密度が磁気記録媒体に要求されている。このような高密度磁気記録媒体として、磁性ドットを非磁性体で分離する構造の所謂パターンド磁気記録媒体が注目されている(例えば、非特許文献1参照)。
非特許文献1に記載の技術は、ナノインプリントによりレジストをパターン化したマスクを用い、このマスクで磁性膜をエッチングすることにより、分離した磁性ドットを形成している。



Fe-Pt-B合金の急冷リボン材では、均質なナノサイズのアモルファスとfccγ-FePt相の複相組織が得られ、熱処理後は良好な硬質磁性を示すナノ構造が得られることがわかっている(非特許文献2参照)。




【非特許文献1】晋山勉,佐藤勇武,石尾俊二、「パターンド磁気記録媒体の製作方法と磁気的特性」、応用物理、2003、第72巻、第3号、P.298-303

【非特許文献2】A. Inoue and W. Zhang, J.Appl.Phys., 97,10H308, 2005

産業上の利用分野


本発明は、金属ガラス及びそれを用いた磁気記録媒体並びにその製造方法に関する。さらに詳しくは、金属ガラスの組成物を主としてFePt(Si)から構成すると共に、この金属ガラスを用いた磁気記録媒体並びにその製造方法に関する。

特許請求の範囲 【請求項1】
下記式(1)で表される組成を有することを特徴とする、金属ガラス。
FePtSi(ここで、20<m≦60原子%、20<n≦55原子%、11≦x<19原子%、0≦y<8原子%、0<z<8原子%である。) (1)

【請求項2】
前記組成が下記式(2)で表されることを特徴とする、請求1に記載の金属ガラス。
Fe55Pt25Si(ここで、11≦x<19原子%、0≦y<8原子%、0<z<8原子%、x+y+z=20原子%である。) (2)

【請求項3】
下記式(3)で表される組成を有することを特徴とする、金属ガラス。
(Fe0.55Pt0.25Si0.160.020.02100-x(ここで、0<X≦6原子%である。Mは、Zr,Nb,Ta,Hf,Ti,Mo,W,VCr,Mn,Al,Y,Ag,希土類元素から選ばれる1つ又はこれらの元素の組み合わせからなる元素である。) (3)

【請求項4】
前記Mが、Zrであることを特徴とする、請求3に記載の金属ガラス。

【請求項5】
基板と、該基板上に設けられかつ複数の凹凸部が形成された金属ガラス層と、を備え、
金属ガラス層は、下記式(1)で表される組成を有する金属ガラスからなり、
上記複数の凹部は軟質磁性層であり、上記複数の凸部は硬質磁性層であることを特徴とする、磁気記録媒体。
FePtSi(ここで、20<m≦60原子%、20<n≦55原子%、11≦x<19原子%、0≦y<8原子%、0<z<8原子%である。) (1)

【請求項6】
前記組成が、下記式(2)で表されることを特徴とする、請求項5に記載の磁気記録媒体。
Fe55Pt25Si(ここで、11≦x<19原子%、0≦y<8原子%、0<z<8原子%、x+y+z=20原子%である。) (2)

【請求項7】
基板と、該基板上に設けられかつ複数の凹凸部が形成された金属ガラス層と、を備え、
金属ガラス層は、下記式(3)で表される組成を有する金属ガラスからなり、
上記複数の凹部は軟質磁性層であり、上記複数の凸部は硬質磁性層であることを特徴とする、磁気記録媒体。
(Fe0.55Pt0.25Si0.160.020.02100-x(ここで、0<X≦6原子%である。Mは、Zr,Nb,Ta,Hf,Ti,Mo,W,VCr,Mn,Al,Y,Ag,希土類元素から選ばれる1つ又はこれらの元素の組み合わせからなる元素である。) (3)

【請求項8】
前記複数の凹部は、非磁性体材料で被覆された表面保護層を備えていることを特徴とする、請求項5の何れかに記載の磁気記録媒体。

【請求項9】
前記凹部及び凸部は、マトリクス状、千鳥格子状及びライン状のいずれかの配列パターンで配列されていることを特徴とする、請求項5の何れかに記載の磁気記録媒体。

【請求項10】
前記Mが、Zrであることを特徴とする、請求項7に記載の磁気記録媒体。

【請求項11】
基板に金属ガラス層を堆積する工程と、
上記金属ガラス層に金型により凹凸部を形成する工程と、
上記金属ガラス層の凸部を熱処理して硬磁性特性とする工程と、を備え、
上記金属ガラス層が下記式(1)で表される組成を有することを特徴とする、磁気記録媒体の製造方法。
FePtSi(ここで、20<m≦60原子%、20<n≦55原子%、11≦x<19原子%、0≦y<8原子%、0<z<8原子%である。) (1)

【請求項12】
前記金属ガラスの組成は下記式(2)で表されることを特徴とする、請求項11に記載の磁気記録媒体の製造方法。
Fe55Pt25Si(ここで、11≦x<19原子%、0≦y<8原子%、0<z<8原子%、x+y+z=20原子%である。) (2)

【請求項13】
基板に金属ガラス層を堆積する工程と、
上記金属ガラス層に金型により凹凸部を形成する工程と、
上記金属ガラス層の凸部を熱処理して硬磁性特性とする工程と、を備え、
上記金属ガラス層が下記式(3)で表される組成を有することを特徴とする、磁気記録媒体の製造方法。
(Fe0.55Pt0.25Si0.160.020.02100-x(ここで、0<X≦6原子%である。Mは、Zr,Nb,Ta,Hf,Ti,Mo,W,VCr,Mn,Al,Y,Ag,希土類元素から選ばれる1つ又はこれらの元素の組み合わせからなる元素である。) (3)

【請求項14】
前記Mが、Zrであることを特徴とする、請求項13に記載の磁気記録媒体の製造方法。

【請求項15】
前記金属ガラス層の凸部を熱処理する温度が、750℃以上850℃以下であることを特徴とする、請求項1113の何れかに記載の磁気記録媒体の製造方法。

【請求項16】
前記金属ガラス層の凸部を熱処理する時間が、10分以上30分以下であることを特徴とする、請求項1113の何れかに記載の磁気記録媒体の製造方法。
産業区分
  • 冶金、熱処理
  • 合金
  • 電子応用機器
国際特許分類(IPC)
Fターム
画像

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JP2009533165thum.jpg
出願権利状態 権利存続中
参考情報 (研究プロジェクト等) SORST 平成14年度採択課題
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