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含フッ素1,3-ジオキソラン化合物の製造方法、含フッ素1,3-ジオキソラン化合物、含フッ素1,3-ジオキソラン化合物の含フッ素ポリマー、及び該ポリマーを用いた光学材料又は電気材料

国内特許コード P110004460
整理番号 E064P14-1
掲載日 2011年7月14日
出願番号 特願2010-241494
公開番号 特開2011-093904
登録番号 特許第5241795号
出願日 平成22年10月27日(2010.10.27)
公開日 平成23年5月12日(2011.5.12)
登録日 平成25年4月12日(2013.4.12)
優先権データ
  • 60/498,689 (2003.8.29) US
  • 特願2004-177125 (2004.6.15) JP
発明者
  • 岡本 善之
  • 小池 康博
出願人
  • 独立行政法人科学技術振興機構
発明の名称 含フッ素1,3-ジオキソラン化合物の製造方法、含フッ素1,3-ジオキソラン化合物、含フッ素1,3-ジオキソラン化合物の含フッ素ポリマー、及び該ポリマーを用いた光学材料又は電気材料
発明の概要

【課題】含フッ素化合物の含フッ素ポリマー、及び含フッ素ポリマーを用いた光学材料又は電気材料を提供する。
【解決手段】下記一般式(4)で表される含フッ素化合物。式(4)中、Rff1及びRff2は各々独立に、フッ素原子又は炭素数1~7のパーフルオロアルキル基を表す。nは、1~4の整数を表す。

【選択図】なし

従来技術、競合技術の概要


含フッ素ポリマーは、プラスチック光ファイバーや露光部材などの光学部材として、あるいは表面改質剤等として使用され、幅広い分野で利用される有用な物質である。しかし、含フッ素ポリマーの合成工程は複雑であり、かつコストが高い。
含フッ素ポリマーは、重合性不飽和基を有する含フッ素化合物を重合することにより得られる。当該含フッ素化合物の一つとして、1,3-ジオキソラン誘導体等が開示されている(例えば、特許文献1~2、及び非特許文献1~2参照。)。



しかし、従来から知られている1,3-ジオキソラン誘導体は、下記式(A)で表される化合物(例えば、特許文献3参照。)や、式(B)で表される化合物(例えば、特許文献4参照。)等の構造に限定され、ジオキソランの5員環上の特定位置に、特定の置換基しか配することができなかった。



【化学式1】





式(B)中、Rf1'及びRf2'は、各々独立に、炭素数1~7のポリフルオロアルキル基
である。



これらの構造的な制限は、合成方法に起因するものである。例えば上記式(A)を合成
する従来の方法では、1,3-オキソラン環には1つの含フッ素基しか配置させることが
できず、かつ導入できる含フッ素基は、トリフルオロアルキル基のみである。また、上記
式(B)を合成する従来の方法では、1,3-オキソラン環に導入できるポリフルオロア
ルキル基は、4,5-の位置に1づつ、合計2つに必ず限定されていた。さらに、式(B)の含フッ素化合物を合成するための原料は、下記式(C)であり、この化合物を合成することは、困難であった。



【化学式2】



産業上の利用分野


本発明は、含フッ素化合物の製造方法、該製造方法により得られる含フッ素化合物、含フッ素化合物より得られる含フッ素ポリマー、及び該ポリマーを用いた光学材料又は電気材料に関する。

特許請求の範囲 【請求項1】
下記一般式(4)で表される含フッ素化合物。
【化学式1】



(式(4)中、Rff1及びRff2は各々独立に、炭素数1~7のパーフルオロアルキル基を表す。nは、1~4の整数を表す。)

【請求項2】
請求項1に記載の含フッ素化合物の重合により得られる含フッ素ポリマー。

【請求項3】
請求項2に記載の含フッ素ポリマーを含む光学部材又は電気部材。

【請求項4】
請求項3に記載の光学部材が、光導波路、光学レンズ、プリズム、フォトマスク、又は光ファイバーである請求項3に記載の光学部材又は電気部材。

【請求項5】
下記式(6)で表される化合物。
【化学式2】



(式(6)中、Xは水素原子又はフッ素原子を表す。Yは水素原子、炭素数1~7のアル
キル基、又は炭素数1~7のポリフルオロアルキル基を表す。R3又はR4は各々独立に、
水素原子、炭素数1~7のアルキル基、又は炭素数1~7のポリフルオロアルキル基を表
す。nは、1~4の整数を表す。)
産業区分
  • 有機化合物
  • 高分子化合物
  • 光学装置
国際特許分類(IPC)
Fターム
出願権利状態 権利存続中
参考情報 (研究プロジェクト等) ERATO 小池フォトニクスポリマープロジェクト 領域
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