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化学集積回路

国内特許コード P110004645
整理番号 Y99-P143
掲載日 2011年7月25日
出願番号 特願平11-342745
公開番号 特開2001-158000
登録番号 特許第4458313号
出願日 平成11年12月2日(1999.12.2)
公開日 平成13年6月12日(2001.6.12)
登録日 平成22年2月19日(2010.2.19)
発明者
  • 生田 幸士
出願人
  • 独立行政法人科学技術振興機構
発明の名称 化学集積回路
発明の概要 特に光造形法等を利用して一つのチップ内に同一機能、同一機構からなる部品を複数配置してなる単一機能チップを形成し、異なる単一機能を持つチップ同志を複数層に組み合わせることにより、目的とする化学反応回路を構成する。単一機能を達成するマイクロチップを構成し、前記構成したチップの中から異なる単一機能を有するチップを複数取り出し、これらチップ同志を組み合わせることにより目的とする化学反応回路を構成することを特徴とするバイオケミカルIC。
従来技術、競合技術の概要
現在欧米で研究が進むシリコン半導体技術を用いた化学ICは、一つのシリコンチップに全ての機能を盛り込む単目的型が主であり、汎用性、即応性の点で問題があり、さらには構造上機能を拡張し高度化させることが困難という問題がある。
【0003】
また、シリコンプロセスによるμ-TAS(Micro Total Analysis System)では、化学反応系が変わるごとに新しいマスクを作製し、シリコン基盤上の流体系の設計製作を必要とする。一般にシリコンプロセスはメモリのような特定の微細回路を大量生産する目的には最適だが、多品種少量生産や個別生産にはコスト的にも、製造時間的にも適さない。
【0004】
このため発明者らは、従来のシリコンプロセスによる問題点を解決する手法としてマイクロ光造形法の開発に成功した(特開平11-170377号公報参照)。
また、上記マイクロ造形法を更に改善した、硬化樹脂に対して透過性を有する近赤外パルスレーザ光を利用し、2光子吸収を誘起することによって焦点近傍のみにおいて紫外レーザーと同じエネルギーに高め、ピンポイントで樹脂を硬化できる2光子マイクロ光造形方法も提案している。
産業上の利用分野
本発明は、マイクロ化学反応回路を内部にもつ「化学IC」に関するものであり、特に光造形法等を利用して一つのチップ内に同一機能、同一機構からなる部品を複数配置してなる単一機能チップ、あるいは一つのチップ内に異なる機能を持つ部品を複数配置してなる複数機能チップを形成し、異なる単一機能あるいは複数機能を持つチップ同志を複数層に組み合わせることにより、目的とする化学反応回路を構成することができる化学集積回路に関するものである。
特許請求の範囲 【請求項1】単一機能を達成する構成要素を少なくとも一つ以上組み込んだマイクロチップを液状の光硬化性樹脂を用いてマイクロ光造形法によって構成し、また前記単一機能とは異なる単一機能を達成する構成要素を少なくとも一つ以上組み込んだマイクロチップを液状の光硬化性樹脂を用いてマイクロ光造形法によって構成し、さらに、上記と同様の方法で構成した単一機能を達成する構成要素を少なくとも一つ以上組み込んだマイクロチップを少なくとも一つ以上構成し、前記構成した各マイクロチップの中から必要とする単一機能を達成するマイクロチップを取り出し、これらチップ同志を組み合わせることにより目的とする化学反応回路を構成することを特徴とする化学集積回路。
産業区分
  • その他機械要素
国際特許分類(IPC)
Fターム
出願権利状態 権利存続中
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