TOP > 国内特許検索 > 微小構造体の製造方法

微小構造体の製造方法 コモンズ

国内特許コード P110004940
掲載日 2011年8月18日
出願番号 特願2004-217825
公開番号 特開2006-035602
登録番号 特許第4500962号
出願日 平成16年7月26日(2004.7.26)
公開日 平成18年2月9日(2006.2.9)
登録日 平成22年4月30日(2010.4.30)
発明者
  • 向井剛輝
  • 八高隆雄
  • 丸尾昭二
出願人
  • 学校法人横浜国立大学
発明の名称 微小構造体の製造方法 コモンズ
発明の概要

【課題】 光造形法により造形可能な微細且つ複雑な三次元構造を有し、任意の物性を有する微小構造体を高精度に成形可能な微小構造体の製造方法を提供する。
【解決手段】 光重合体(1)が、微小且つ三次元構造の転写型(10)として光造形される。光重合体の三次元構造は、転写型によって任意の金属(13)に転写される。金属は、転写型のキャビティ(11)内に充填され、キャビティ内の金属は、電解研削及び樹脂除去の工程を経て転写型から脱型される。また、転写型でエッチング用マスクを作製しても良く、転写型(30)の輪郭は、特殊シリコーン樹脂(40)に転写され、特殊シリコーン樹脂は、エッチング用マスクとして基板(41)に密着し、基板は、エッチングされる。
【選択図】 図3

従来技術、競合技術の概要


半導体等の表面を加工して三次元構造を得る技術として、リソグラフィが知られている。リソグラフィ装置又はリソグラフィ工程は、半導体ウェハ等に回路パターンを焼付ける装置又は工程として、光・電子デバイスの製造において使用されている。リソグラフィの技術は、微小構造体の製造工程においても使用し得ることから、リソグラフィ技術を応用して三次元構造のマイクロマシンを製造する微小構造体の製造方法が提案されている。例えば、特開平11-28768号公報及び特開平11-61436号公報には、基板上にリソグラフィ工程で二次元パターンの薄膜を形成し、基板及び薄膜をエッチング処理し、エッチング処理後の基板及び薄膜を多層に積層して三次元構造の微小ギア等を製造する微小構造体の製造方法が記載されている。



他方、光重合性樹脂原料にレーザー光を照射して三次元構造の光重合体を造形する光造形法が知られており、これを用いた微小構造体の製造方法が提案されている。光造形法は、例えば、特開2003-25295号公報、特開2001-158050号公報及び特開平11-17037号公報等に記載される如く、液状の光重合性樹脂原料にレーザー光を照射し、所望形状の光重合体からなる三次元構造体を成形する加工法として知られている。このような光造形法によれば、レーザー光の集光点や、2光子吸収を正確に制御することにより、比較的複雑な三次元構造を有するマイクロギア等の微小構造体を光重合性樹脂原料より製造することができる。なお、この光重合体は、通常は、光硬化性樹脂と呼ばれている。

【特許文献1】特開平11-28768号公報

【特許文献2】特開平11-61436号公報

【特許文献3】特開2003-25295号公報

【特許文献4】特開2001-158050号公報

【特許文献5】特開平11-17037号

産業上の利用分野


本発明は、微小構造体の製造方法に関するものであり、より詳細には、任意の物性を有するマイクロ・ナノオーダーの微小構造体を成形する微小構造体の製造方法に関するものである。

特許請求の範囲 【請求項1】
光造形法により造形した光重合体を用いた微小構造体の製造方法において、
光重合体の三次元構造体を光造形法で任意形態に造形して微小且つ三次元構造の転写型を形成する転写型作製工程と、
無電解メッキによって任意の金属を前記転写型のキャビティ内に充填し、該キャビティ内の金属に前記転写型の三次元輪郭を転写するとともに、前記転写型の表面にメッキ層を形成する転写工程と、
前記転写型の表面に形成されたメッキ層を電解研削によって除去する電解研削工程とを有し、
光造形法で造形可能な三次元構造と実質的に同一の構造を有する微小且つ任意物性の金属製微小構造体を製造することを特徴とする微小構造体の製造方法。

【請求項2】
前記転写型を融解、焼失又は溶解させて、前記キャビティ内の金属を前記転写型から脱型することを特徴とする請求項に記載の微小構造体の製造方法。

【請求項3】
微小構造体の物性を熱処理又は化学的処理によって改質することを特徴とする請求項1又は2に記載の微小構造体の製造方法。
産業区分
  • 高分子化合物
  • 工業用ロボット
国際特許分類(IPC)
Fターム
画像

※ 画像をクリックすると拡大します。

JP2004217825thum.jpg
出願権利状態 権利存続中
※ 掲載特許について詳しくお知りになりたい方はHPの「お問い合わせ」ページにてお問い合わせください。


PAGE TOP

close
close
close
close
close
close
close