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微細構造造形方法 コモンズ 新技術説明会

国内特許コード P110004997
掲載日 2011年8月18日
出願番号 特願2007-228176
公開番号 特開2009-056781
登録番号 特許第5078140号
出願日 平成19年9月3日(2007.9.3)
公開日 平成21年3月19日(2009.3.19)
登録日 平成24年9月7日(2012.9.7)
発明者
  • 丸尾 昭二
  • 長谷川 拓也
出願人
  • 国立大学法人横浜国立大学
発明の名称 微細構造造形方法 コモンズ 新技術説明会
発明の概要

【課題】本発明の課題は、複雑で微細な3次元構造体を造形する際に起こる造形物の歪みを低減することができる微細構造造形方法を提供することにある。
【解決手段】上記課題を解決するために、本発明に係る微細構造造形方法は、歪み低減部を付与された任意の3次元構造を設計する構造設計ステップと、レーザー光を光硬化性樹脂に集光させるマイクロ光造形法により構造設計ステップにより設計された3次元構造を造形する造形ステップと、造形ステップにおいて、レーザー光が集光されなかった未硬化の樹脂を洗浄し、レーザー光が集光されることにより硬化した樹脂を乾燥させる洗浄乾燥ステップとを備えることを特徴とする。
【選択図】図2

従来技術、競合技術の概要


近年、マイクロ光造形法(特に、2光子マイクロ光造形法)は、100nm以下の加工線幅で任意の3次元マイクロ構造体を形成できるため、フォトニック結晶や光導波路、マイクロマシンなどさまざまな分野に応用されている(非特許文献1および2を参照)。



2光子マイクロ光造形法を用いて実用的なデバイスを作成するには、光硬化性樹脂からなる微小な造形物を高精度に作製することが不可欠である。




【非特許文献1】Materials Today, Volume 10, Number 6, 2007年6月,30頁~37頁

【非特許文献2】Applied Physics Letters 90, 079903, 2007年

産業上の利用分野


本発明は、微細構造造形方法に関する。

特許請求の範囲 【請求項1】
円柱である歪み低減部を付与された立方体フレーム構造の3次元構造を設計する構造設計ステップであり、前記歪み低減部の底面の直径は、100ナノメートル(100×10-9メートル)~5マイクロメートル(5×10-6メートル)であり、前記歪み低減部の高さは、500ナノメートル(500×10-9メートル)~10マイクロメートル(10×10-6メートル)である、構造設計ステップと、
レーザー光を光硬化性樹脂に集光させるマイクロ光造形法により前記構造設計ステップにより設計された前記3次元構造を造形する造形ステップと、
前記造形ステップにおいて、前記レーザー光が集光されなかった未硬化の樹脂を洗浄し、前記レーザー光が集光されることにより硬化した樹脂を乾燥させる洗浄乾燥ステップとを備えることを特徴とする微細構造造形方法。

【請求項2】
円柱である歪み低減部を付与された、円柱構造の3次元構造を設計する構造設計ステップであり、前記歪み低減部の底面の直径は、100ナノメートル(100×10-9メートル)~5マイクロメートル(5×10-6メートル)であり、前記歪み低減部の高さは、500ナノメートル(500×10-9メートル)~10マイクロメートル(10×10-6メートル)である、構造設計ステップと、
レーザー光を光硬化性樹脂に集光させるマイクロ光造形法により前記構造設計ステップにより設計された前記3次元構造を造形する造形ステップと、
前記造形ステップにおいて、前記レーザー光が集光されなかった未硬化の樹脂を洗浄し、前記レーザー光が集光されることにより硬化した樹脂を乾燥させる洗浄乾燥ステップとを備えることを特徴とする微細構造造形方法。

【請求項3】
前記洗浄乾燥ステップを超臨界洗浄乾燥装置により実行することを特徴とする請求項1又は2に記載の微細構造造形方法。

【請求項4】
前記歪み低減部の個数は、1個であることを特徴とする請求項1又は2に記載の微細構造造形方法。
産業区分
  • 高分子化合物
  • その他機械要素
国際特許分類(IPC)
Fターム
画像

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JP2007228176thum.jpg
出願権利状態 権利存続中
※ 掲載特許について詳しくお知りになりたい方はHPの「お問い合わせ」ページにてお問い合わせください。


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