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光分解を利用した高分子ナノ粒子の製造法 コモンズ

国内特許コード P110005644
整理番号 07055P
掲載日 2011年8月18日
出願番号 特願2007-167648
公開番号 特開2009-007403
登録番号 特許第5243738号
出願日 平成19年6月26日(2007.6.26)
公開日 平成21年1月15日(2009.1.15)
登録日 平成25年4月12日(2013.4.12)
発明者
  • 吉田 絵里
  • 桑山 聡
出願人
  • 国立大学法人豊橋技術科学大学
  • 株式会社リコー
発明の名称 光分解を利用した高分子ナノ粒子の製造法 コモンズ
発明の概要

【課題】光分解反応を利用して、電子写真の現像材、印刷用インク、建築用塗料等の構成材料としての用途が見込まれる高分子の集合体よりなるナノ粒子を提供すること、及び光記憶材料や光センサーなどへの応用展開が見込まれる光分解による新しいナノ粒子の製造技術の提供。
【解決手段】スチレン系高分子とtert-ブトキシ基含有の高分子からなるブロック共重合体に、光酸発生剤存在下で光照射することにより、該共重合体の一部が分解し集合することにより数十ナノメートルのナノ粒子が得られることを見出し、本発明を完成した。
【選択図】図1

従来技術、競合技術の概要


以前から、光刺激をナノ粒子形成の原動力とする技術には、光異性化反応が用いられてきた。すなわち、分子中に含まれる二重結合が光照射によってトランス体からシス体、あるいはシス体からトランス体に異性化し、その異性化により分子の相極子モーメントや溶解性が変化しナノ粒子が形成される方法である。



しかし、従来の光刺激によるナノ粒子の製造法では、光異性化に特殊な構造の化合物を用いるため高価である上、これらの化合物が低分子量体であるために材料としての使用には強度や脆性の点で耐えられないなどの難点が生じる。これらの点を改善するための高分子化技術には熟練した合成技術が必要であるばかりでなく、材料としての使用に耐えうる程度の高分子量体の形成が困難であるといった問題点を含んでいる。

【特許文献1】特開平8-1669号公報

【特許文献2】特開2005-181489号公報

【非特許文献1】新高分子実験化学2;高分子の合成―反応(1);付加系高分子の合成、高分子学会編―共立出版1995

産業上の利用分野


本発明は、光分解によって形成される高分子ナノ粒子の製造法に関する。該ナノ粒子は電子写真の現像材、印刷用インク、建築用塗料、抽出・分離剤、薬物運搬剤等の構成材料としての用途が見込まれる。また、該製造技術は光記憶材料や光センサーなどへの応用展開が見込まれる。

特許請求の範囲 【請求項1】
下記一般式(1)で示されるジブロック共重合体に、光酸発生剤存在下で光照射することによりナノ粒子を製造する方法。
一般式(1)
【化学式1】


一般式(1)中、
:開始剤断片
:停止剤断片またはラジカル重合制御剤
:-OC(CHまたは-OC(=O)OC(CH
:水素原子、塩素原子、臭素原子、メチル基、及びエチル基のいずれかを表す
m:重合度、50~120の整数
n:重合度、40~2000の整数
m/n:0.05~1.2

【請求項2】
請求項1における光酸発生剤が下記一般式(2)もしくは(3)で示される化合物である請求項1に記載のナノ粒子を製造する方法。
一般式(2)
【化学式2】


一般式()中、
:水素原子または-(CHH(nは10~14の整数)
【化学式3】


一般式(3)中、R:水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メチル基、及びtert-ブチル基のいずれかを表す

【請求項3】
請求項1に記載の一般式(1)で示されるブロック共重合体が請求項2に記載の一般式(2)もしくは(3)で示される光酸発生剤存在下での光分解により、下記一般式(4)で示されるジブロック共重合体に変換されることにより、請求項1に記載のナノ粒子を製造する方法。
【化学式4】


一般式(4)中、
:開始剤断片
:停止剤断片またはラジカル重合制御剤
:水素原子、塩素原子、臭素原子、メチル基、及びエチル基のいずれかを表す
m:重合度、50~120の整数
n:重合度、40~2000の整数
m/n:0.05~1.2

【請求項4】
粒径が10~200ナノメートルの範囲にある請求項1に記載のナノ粒子を製造する方法。

【請求項5】
請求項1から4のいずれかに記載のナノ粒子を製造する方法を用いることを特徴とする電子写真用組成物の製造方法。

【請求項6】
請求項1から4のいずれかに記載のナノ粒子を製造する方法を用いることを特徴とする接着用組成物の製造方法。

【請求項7】
請求項1から4のいずれかに記載のナノ粒子を製造する方法を用いることを特徴とする光記憶材料の製造方法。
産業区分
  • 高分子化合物
  • 塗料・接着剤
  • 事務機
国際特許分類(IPC)
Fターム
画像

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JP2007167648thum.jpg
出願権利状態 権利存続中
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