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微粒子の製造方法 新技術説明会

国内特許コード P120006676
整理番号 P10-095
掲載日 2012年2月22日
出願番号 特願2011-017820
公開番号 特開2012-158785
登録番号 特許第5807893号
出願日 平成23年1月31日(2011.1.31)
公開日 平成24年8月23日(2012.8.23)
登録日 平成27年9月18日(2015.9.18)
発明者
  • 畠山 義清
  • 西川 恵子
出願人
  • 国立大学法人 千葉大学
発明の名称 微粒子の製造方法 新技術説明会
発明の概要 【課題】イオン液体代替の、より環境負荷が小さく安定的に金属微粒子を製造する方法を提供する。
【解決手段】微粒子の製造方法は、液体高分子ポリエチレングリコールに貴金属、Si及びCdの少なくともいずれかをスパッタリングする。また、この手段において、貴金属は、金、銀、銅、白金の少なくともいずれかを含むことが好ましい。また、この手段において、高分子ポリエチレングリコールの数平均分子量は、200以上800以下の範囲にあることが好ましい。また、本手段において、スパッタリングの後、加熱処理を行うことが好ましい。
【選択図】図1
従来技術、競合技術の概要


金属微粒子は配線材料や医療用検査試薬等の原料素材として利用されている。その中でも特にナノレベル(10-9m程度)の金属微粒子には、装置等の小型化はもちろん、微細ゆえ例えば量子効果等特殊な現象が発現し、予想を超える性能や特異な性能を有すると期待されており、いわゆるナノテクノロジーとして研究が盛んにおこなわれている。



たとえば下記特許文献1、非特許文献1にはイオン液体にスパッタリングを行い、金属・半導体のナノ粒子を調整する方法が報告されている。

産業上の利用分野


本発明は、微粒子の製造方法に関する。より具体的には、貴金属微粒子、Si微粒子又はCd微粒子の製造方法に関する。

特許請求の範囲 【請求項1】
数平均分子量が400以上600以下の範囲にある液体高分子ポリエチレングリコールに、金、銀、銅、白金の少なくともいずれかを含む貴金属、Si及びCdの少なくともいずれかを20℃以上120℃以下の温度範囲でスパッタリングし、
当該スパッタリングの後、100℃以下の範囲で加熱処理を行うことにより粒径を調整する微粒子の製造方法。
産業区分
  • 冶金、熱処理
  • 加工
国際特許分類(IPC)
Fターム
画像

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JP2011017820thum.jpg
出願権利状態 登録
参考情報 (研究プロジェクト等) 2012年2月21日(火) 千葉大学 新技術説明会
上記の特許・技術に関心のある方は、下記問い合わせ先にご相談下さい。


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