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ハードコート膜形成方法

国内特許コード P120006963
整理番号 2000000071
掲載日 2012年3月23日
出願番号 特願2000-387723
公開番号 特開2002-187738
登録番号 特許第4812935号
出願日 平成12年12月20日(2000.12.20)
公開日 平成14年7月5日(2002.7.5)
登録日 平成23年9月2日(2011.9.2)
発明者
  • 西出 利一
出願人
  • 学校法人日本大学
発明の名称 ハードコート膜形成方法
発明の概要 アモルファスでありながら鉛筆硬度が大きくて高い屈折率及び基材に対する大きな密着性を備え、各種透明部材の表面保護膜として、防眩性薄膜として有用なハードコート膜を提供することを目的とする。ゾルゲル法により形成されたところの、ケイ素、アルミニウム、ジルコニウム、及びハフニウムより成る群から選択される少なくとも一種の元素の無機化合物を含有するゾル液を、基材上に塗布し、200℃を超えない温度に加熱処理しながら、大きくとも100mJ/cm2の紫外線を照射することを特徴とするハードコート膜形成方法。
従来技術、競合技術の概要
従来、シリコーンハードコート膜は、シリコン含有高分子を溶解した溶液を基材上に塗布し、これを乾燥した後に100~300℃に加熱(キュアー)することにより形成されていた。
【0003】
しかしながら、このシリコーンハードコート膜は、その鉛筆硬度が3H程度であるから、その表面が衝撃を受けると容易に傷が付くという問題点があった。
【0004】
また、シリコーンハードコート膜の屈折率は約1.4であるので、高屈折率を要求するところの、光干渉を利用した低反射膜や高反射膜に利用することができないと言う問題点がある。
【0005】
一般的に言うと、「ハードコート膜」と称される素材に対しては、その硬度ができるだけ高く、基材の種類を選択する必要がなく、基材との密着性ができるだけ大きく、簡単なプロセスで安価に製造することが望まれている。
産業上の利用分野
この発明はハードコート膜形成方法に関し、更に詳しくは、アモルファス状態であり、しかも鉛筆硬度の大きな金属酸化物薄膜を形成することのできるハードコート薄膜形成方法に関する。
特許請求の範囲 【請求項1】 ゾルゲル法により形成されたところの、ケイ素、アルミニウム、ジルコニウム、及びハフニウムより成る群から選択される少なくとも一種の元素の無機化合物を含有するゾル液を、基材上に塗布し、相対湿度70%以上の雰囲気下で200℃を超えない温度に加熱処理しながら、大きくとも100mJ/cm2の紫外線を照射することを特徴とするハードコート膜形成方法。
【請求項2】 前記基材がガラス及び/又はプラスチックから成る前記請求項1に記載のハードコート膜形成方法。
【請求項3】 前記無機化合物がジルコニア及びハフニアよりなる群から選択される少なくとも一種である前記請求項1又は2に記載のハードコート膜形成方法。
【請求項4】 前記紫外線は、その光源が高圧水銀灯又は低圧水銀灯である前記請求項1に記載のハードコート膜形成方法。
産業区分
  • 窯業
  • その他無機化学
  • 高分子化合物
  • 塗料・接着剤
国際特許分類(IPC)
Fターム
出願権利状態 権利存続中
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