TOP > 国内特許検索 > アルミニウム薄膜の製造方法

アルミニウム薄膜の製造方法

国内特許コード P120007522
整理番号 S2010-1110
掲載日 2012年5月14日
出願番号 特願2011-189748
公開番号 特開2012-072495
登録番号 特許第5692726号
出願日 平成23年8月31日(2011.8.31)
公開日 平成24年4月12日(2012.4.12)
登録日 平成27年2月13日(2015.2.13)
優先権データ
  • 特願2010-194908 (2010.8.31) JP
発明者
  • 肥後 盛秀
  • 満塩 勝
出願人
  • 国立大学法人 鹿児島大学
発明の名称 アルミニウム薄膜の製造方法
発明の概要 【課題】真空蒸着によるドライな条件で、化学薬品を使用することなく、廃棄物の排出を抑えながら極めて大きな比表面積を有するアルミニウム薄膜を実現する。
【解決手段】高真空中で、蒸着温度460℃以上520℃以下、蒸着速度0.5nm/s以上10.0nm/s以下の成膜条件で、アルミニウム基板上に蒸着法によりアルミニウムを成膜し、直径が0.7μm以上1.5μm以下であって先端尖状の柱状とされた複数の各々孤立したアルミニウム粒子から構成され、前記各アルミニウム粒子間には貫通した空隙が形成されており、凹凸状の表面を有するアルミニウム薄膜を形成する。
【選択図】図18
従来技術、競合技術の概要


電解コンデンサに用いられる電極は、いわゆる溶液法により、アルミニウム薄膜の電気的なエッチングを用い、大量の電気及び化学薬品を使用して、廃棄物を排出しながら製造されている。現在、この溶液法によるアルミニウム薄膜の表面積の増加率は限界に達しており、新しい製造方法による表面積の更なる拡大が望まれている。



真空蒸着法を用いたアルミニウム薄膜の製造方法が特許文献1に開示されている。この技術では、分圧2×10-3Torr~5×10-3Torrの窒素と分圧2×10-4Torr~5×10-4Torrの酸素との混合雰囲気中、蒸着速度約300オングストローム/sで温度300℃のアルミニウム箔上にアルミニウムを蒸着する。これにより、カリフラワー状の表面構造を有するアルミニウム薄膜が形成される。

産業上の利用分野



本発明は、アルミニウム薄膜の製造方法に関する。

特許請求の範囲 【請求項1】
アルミニウム基板上に真空蒸着法によりアルミニウム薄膜を形成する方法であって、
1.4×10-6Torr以上3.1×10-6Torr以下の真空度で、蒸着温度を460℃以上520℃以下とするとともに、
蒸着速度を0.5nm/s以上10.0nm/s以下として、前記アルミニウム薄膜を形成することを特徴とするアルミニウム薄膜の製造方法。
産業区分
  • 表面処理
  • 電子部品
国際特許分類(IPC)
Fターム
画像

※ 画像をクリックすると拡大します。

JP2011189748thum.jpg
出願権利状態 登録
特許の内容に興味を持たれた方、ライセンスをご希望の方は、下記「問合せ先」までお問い合わせください。


PAGE TOP

close
close
close
close
close
close
close