TOP > 国内特許検索 > セラミックス膜、発光素子及びセラミックス膜の製造方法

セラミックス膜、発光素子及びセラミックス膜の製造方法

国内特許コード P120007531
整理番号 19‐3
掲載日 2012年5月15日
出願番号 特願2007-129294
公開番号 特開2008-285339
登録番号 特許第4921242号
出願日 平成19年5月15日(2007.5.15)
公開日 平成20年11月27日(2008.11.27)
登録日 平成24年2月10日(2012.2.10)
発明者
  • 栗田 ふみ
  • 福島 英子
  • 藤田 恭久
出願人
  • 国立大学法人島根大学
発明の名称 セラミックス膜、発光素子及びセラミックス膜の製造方法
発明の概要

【課題】低抵抗なセラミックス膜とその製造方法を提供する。
【解決手段】式X/Y≧1(ここで、X:前記セラミックス膜のa軸に直交するいずれかの結晶面のうちのX線回折強度の中の最大値、Y:前記金属化合物からなる粉末のX線回折強度が最大値となる結晶面と同一の結晶面における前記セラミックス膜のX線回折強度)を満足する結晶構造が六方晶の金属化合物相を主体としたセラミックス膜を、アスペクト比が2~7の範囲の柱状粒子を個数比で5~30%含む金属化合物粉末を気体と混合してエアロゾルを形成し、減圧雰囲気でエアロゾルをノズルから被成膜体へ噴射し被成膜体に形成する。
【選択図】 図3

従来技術、競合技術の概要


電界発光素子の発光膜に関する技術の一例が特許文献1に記載されている。この電界発光素子は、平面型画像表示装置(いわゆるフラットパネルディスプレイ:FPD)の一種であるEL素子として使用されるものである。なお、以下、本発明の理解のために発光膜に係わる技術を中心に説明をするが、本発明は発光膜のみに制限されない。



特許文献1の電界発光素子は、透明電極間に発光層、誘電体層、電荷供給層を有し、その発光層は、例えばスパッタ法若しくはCVD法で、又は金属化合物(ZnO等)からなる蛍光体粒子を用いエアロゾルデポジション法で形成されている。



近年、FPDの消費電流の低減及び画像品質の向上の要求に伴い、FPDを構成する発光素子に対しても発光特性や電気特性の向上が求められている。ここで、当該発光素子の発光膜を構成する金属化合物セラミックスは、結晶面の方向により電気特性、磁気特性又は誘電特性等の特性が異なるため、結晶配向を制御することで電気特性や磁気特性等を向上させた材料を得ることが可能となる。



そこで、近年、上記発光膜又はインクジェットノズルを構成する圧電膜その他種々の機能性部材として用いられる金属化合物セラミックス膜の特性を向上させるため、特定の結晶面について配向させる技術の開発が行われており、その一例が特許文献2に開示されている。



特許文献2には、常温で成膜しても、被成膜体への密着性が高く、緻密な膜を形成することが可能なエアロゾルデポジション法を用いた成膜方法が開示されている。すなわち、特許文献2の成膜方法は、原料の粉体を容器に収納し、前記容器にキャリアガスを導入することにより、前記原料の粉体を含むエアロゾルを生成する工程 と、前記生成されたエアロゾルの流路に磁場を印加することにより、エアロゾルに含まれる原料の粉体における結晶方位を配向させる工程 と、前記磁場が印加されたエアロゾルを基板に吹き付けることにより、結晶方位が配向した原料の粉体を前記基板上に堆積させる工程と、を具備する成膜方法である。かかる成膜方法よれば、原料粉体を含むエアロゾルに磁場を印加して粉体の結晶方位を制御するので、基板上に堆積した膜の結晶方位を所望の向きに配向できるという利点がある。




【特許文献1】特開2006-127780号公報

【特許文献2】特開2006-97087号公報

産業上の利用分野


本発明は、セラミックス膜とその製造方法並びに当該セラミックス膜を発光膜とする発光素子に関するものであり、特に結晶軸が特定の方向に配向した金属酸化物相を有するセラミックス膜及びその膜をエアロゾルデポション法を用いて製造する製造方法並びに当該セラミックス膜を発光膜とする発光素子に係わるものである。

特許請求の範囲 【請求項1】
結晶構造が六方晶の酸化亜鉛(ZnO)からなる金属化合物層を主体とし、非晶質基板の上に形成されたセラミックス膜において、下記の式を満足することにより、前記金属化合物相は実質的にa軸配向性を有することを特徴とするセラミックス膜。
X/Y≧1
ここで、
X:前記セラミックス膜のa軸に直交するいずれかの結晶面のX線回折強度の中の最大値
Y:前記金属化合物からなる粉末のX線回折強度が最大値となる結晶面と同一の結晶面における前記セラミックス膜のX線回折強度

【請求項2】
前記非晶質基板はガラス基板であることを特徴とする請求項1に記載のセラミックス膜。

【請求項3】
前記セラミックス膜が発光膜であることを特徴とする請求項1記載のセラミックス膜。

【請求項4】
請求項3に記載のセラミックス膜を有することを特徴とする発光素子。

【請求項5】
請求項1乃至3のいずれか1項に記載のセラミックス膜の製造方法であって、アスペクト比が2~7の範囲の粒子を個数比で5~30%含む結晶構造が六方晶の金属化合物粉末を気体と混合してエアロゾルを形成し、減圧雰囲気でエアロゾルをノズルから被成膜体へ噴射し、被成膜体にセラミックス膜を形成するセラミックス膜の製造方法。

【請求項6】
前記金属化合物粉末が粒径0.05~1μmの一次粒子で構成されていることを特徴とする請求項5に記載のセラミックス膜の製造方法。

【請求項7】
前記金属化合物粉末のせん断付着応力が0.5~4kPaであることを特徴とする請求項5又は6に記載のセラミックス膜の製造方法。
産業区分
  • 無機化合物
  • 表面処理
  • その他機械要素
  • 電力応用
国際特許分類(IPC)
Fターム
画像

※ 画像をクリックすると拡大します。

JP2007129294thum.jpg
出願権利状態 権利存続中
ライセンスをご希望の方、特許の内容に興味を持たれた方は、下記「問合せ先」まで直接お問い合わせください。


PAGE TOP

close
close
close
close
close
close
close