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ナノ空間を利用した有機化合物の製造方法 コモンズ 新技術説明会

国内特許コード P120007898
整理番号 N11128
掲載日 2012年9月6日
出願番号 特願2012-111022
公開番号 特開2013-237635
出願日 平成24年5月14日(2012.5.14)
公開日 平成25年11月28日(2013.11.28)
発明者
  • 金子 克美
  • 阿部 梢
  • 伊藤 努武
出願人
  • 国立大学法人信州大学
発明の名称 ナノ空間を利用した有機化合物の製造方法 コモンズ 新技術説明会
発明の概要

【課題】高圧有機合成反応の高圧条件を、効率的、かつ、省エネルギー的に常圧下で再現できる、有機化合物を製造する方法を提供し、さらに、本発明は、その有機化合物を製造する方法を使用して製造された、収率性が良好な有機化合物を提供すること。
【解決手段】本発明による有機化合物を製造する方法、ナノ空間の反応場を有する物質を用いて有機合成反応を行うことを特徴とする。
【選択図】なし

従来技術、競合技術の概要


近年、省エネルギー化が重視される中、有用な有機合成反応をいかに効率良く、低エネルギーで行うかが注目を集めている。有用な有機合成反応の一つである高圧有機合成反応は、反応速度、収率の増大等の観点から、医薬品等の製造で利用されているものの、高圧条件を生み出すこと自体に膨大なエネルギーを必要とするので、実用化又は製造化に対しては、クリアーすべき問題が多いのが現状である。



したがって、高圧有機合成反応等の有用な有機合成反応を実用的に問題ないように改良すべく、現在、研究開発が盛んに行われている。例えば、非特許文献1は、SWCNH(Single Wall Carbon Nanohorn)において、1.9GPaでないと固体相転移が起こらない物質が、固体相転移を起こすことを述べている。すなわち、非特許文献1を参照すると、SWCNH先端から2~3nmくらいにKIを入れ、このKIがどういう結晶形であるかを調べると、多くのものは基本的には常圧相の強いピークであるが、弱いピークも見られ、これが1.9GPaでなければできない相であり、非常に小さい空間の中に入ったものは極めて高圧の効果を受けていることを見出している。

産業上の利用分野


本発明は、ナノ空間を用いた有機化合物の製造方法、及びその方法を使用して製造された有機化合物に関する。

特許請求の範囲 【請求項1】
ナノ空間の反応場を有する物質を用いて有機合成反応を行うことを特徴とする、有機化合物を製造する方法。

【請求項2】
前記有機合成反応が擬高圧有機合成反応である、請求項1に記載の方法。

【請求項3】
前記有機化合物の結晶核が、前記ナノ空間の反応場内に存在する反応液中で生成される、請求項1又は2に記載の方法。

【請求項4】
前記有機化合物の前記結晶核が、前記ナノ空間の反応場内に存在する前記反応液から溶出して、前記ナノ空間の反応場外に存在する反応液中で成長する、請求項3に記載の方法。

【請求項5】
前記ナノ空間の反応場を有する物質が、ナノ細孔空間の反応場を有する物質である、請求項1から4のいずれか1項に記載の方法。

【請求項6】
前記ナノ細孔空間の反応場を有する物質が結晶性ナノ細孔体又は非晶性ナノ細孔体である、請求項5に記載の方法。

【請求項7】
前記ナノ細孔空間の反応場を有する物質が炭素材料である、請求項5に記載の方法。

【請求項8】
前記ナノ細孔空間の反応場を有する物質がカーボンナノチューブ又は細孔性カーボンである、請求項5に記載の方法。

【請求項9】
請求項1~8のいずれか1項に記載の方法を使用して製造された有機化合物。

【請求項10】
光学活性な化合物である、請求項9に記載の有機化合物。

【請求項11】
ジオール化合物である、請求項9に記載の有機化合物。
産業区分
  • 有機化合物
国際特許分類(IPC)
Fターム
出願権利状態 審査請求前
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