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芳香族ポリアミドの製造方法 コモンズ

国内特許コード P120008068
掲載日 2012年10月26日
出願番号 特願2004-131363
公開番号 特開2005-314478
登録番号 特許第4517224号
出願日 平成16年4月27日(2004.4.27)
公開日 平成17年11月10日(2005.11.10)
登録日 平成22年5月28日(2010.5.28)
発明者
  • 横澤 勉
出願人
  • 学校法人神奈川大学
発明の名称 芳香族ポリアミドの製造方法 コモンズ
発明の概要

【課題】取り扱いが容易な原料を用い、また簡便な方法によって、所望の分子量(重合度)を有するポリ(N-アルキル-p-ベンズアミド)を製造できるようにする。
【解決手段】モノマー(1)として4-(アルキルアミノ)安息香酸メチル、塩基(2)としてリチウム1,1,1,3,3,3-ヘキサメチルジシラジドを用い、安息香酸フェニル類からなる開始剤(3)の存在下、テトラヒドロフラン中、所定温度以下で反応させることを特徴とするものである。但し、前記モノマー(1)のアルキル基Rの炭素数は8~12であり、生成されるポリ(N-アルキル-p-ベンズアミド)(4)の重合度nは1≦n≦70である。
【選択図】なし

従来技術、競合技術の概要


芳香族ポリアミドに関する従来の技術として、アミド型溶媒、ホスファイト化合物、塩化リチウム及び塩化カルシウムを含む溶液中で、濃度0.08~0.15モル/Lのp-アミノ安息香酸を重縮合させて得た均一透明なポリ(p-ベンズアミド)含有溶液に、カルボキシル基及び/又はアミノ基と反応性の官能基を有するポリマーを添加してポリ(p-ベンズアミド)とポリマーとを重合させることにより、ポリ(p-ベンズアミド)と他種ポリマーとを共重合させるものが開示されている(特許文献1参照)。



また、本発明者らは、既にポリ(p-ベンズアミド)の重縮合において狭い分子量分布をもって重合体の分子量(重合度)を制御する方法を見出しており、この方法は、下記する化1に示すように、モノマー(A)として4-(アルキルアミノ)安息香酸フェニル、塩基(B)としてN-トリエチルシリル-N-オクチルアニリンを、フッ化セシウム及び18-クラウン-6エーテル存在下で用いて、テトラヒドロフラン(THF)中室温で反応させるものであり、生成されるポリアミド(C)の分子量(重合度n)は、安息香酸フェニル類からなる開始剤(D)のモノマー(A)に対する仕込み量を変えることにより、およそ理論値通りに制御できるものである(非特許文献1参照)。
【化学式1】



【特許文献1】特開平10-316758号公報

【非特許文献1】JOURNAL OF THE AMERICAN CHEMICAL SOCIETY, Volume 122, Number 34, pages 8313-8314, “Chain-Growth Polycondensation for Nonbiological Polyamides of Defined Architecture”

産業上の利用分野


本発明は、芳香族アミドの重縮合方法に関し、特にポリ(N-アルキル-p-ベンズアミド)を、分子量(重合度)を制御可能に製造するための技術に関するものである。

特許請求の範囲 【請求項1】
下記する化1において、モノマーとして4-(アルキルアミノ)安息香酸メチル、塩基としてリチウム1,1,1,3,3,3-ヘキサメチルジシラジドを用い、安息香酸フェニル類からなる開始剤の存在下、テトラヒドロフラン中、所定温度以下で反応させることを特徴とする芳香族ポリアミドの製造方法。但し、前記モノマーのアルキル基Rの炭素数は8~12であり、生成されるポリ(N-アルキル-p-ベンズアミド)の重合度nは2≦n≦70である。
【化学式1】




【請求項2】
前記所定温度は-10℃であることを特徴とする請求項1記載の芳香族ポリアミドの製造方法。

【請求項3】
前記開始剤は4-メチル安息香酸フェニルであることを特徴とする請求項1又は2記載の芳香族ポリアミドの製造方法。
産業区分
  • 高分子化合物
国際特許分類(IPC)
Fターム
出願権利状態 権利存続中
本技術について、ライセンスや共同研究等をご希望の方は、下記「問合せ先」まで直接お問い合わせください。


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