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測定装置及び測定方法

国内特許コード P120008138
整理番号 09032
掲載日 2012年11月1日
出願番号 特願2009-181704
公開番号 特開2011-033537
登録番号 特許第5626750号
出願日 平成21年8月4日(2009.8.4)
公開日 平成23年2月17日(2011.2.17)
登録日 平成26年10月10日(2014.10.10)
発明者
  • 早川 慎二郎
出願人
  • 国立大学法人広島大学
発明の名称 測定装置及び測定方法
発明の概要 【課題】一般的なX線源を用いて、高精度なXAFS測定を行う。
【解決手段】X線源2は、少なくとも所定のエネルギ帯域の成分を含むX線を放射する。集光素子3は、X線源2から放射されたX線を集光する。試料台4は、集光素子3によるX線の集光位置Fに対して、サンプル10を進入退避可能に載置する。分光結晶5は、集光位置Fから発散するX線を斜入射することにより、そのX線を分光する。検出装置6は、分光結晶5により分光されたX線の強度分布を検出する。演算装置7は、検出装置6によって検出された強度分布に基づいて、サンプル10のX線吸収スペクトルを演算により求める。
【選択図】図1
従来技術、競合技術の概要



物質における微小な部分のX線吸収微細構造測定、すなわちマイクロXAFS(Micro X-ray Absorption Fine Structure)測定では、光源として、一般的なX線源が用いられていたが、近年では放射光の利用の発展に伴って、もっぱら放射光が用いられるようになっている(例えば、非特許文献1、2参照)。直進性が高く、エネルギの強い放射光を用いた方が、物質の微細構造を高精度に測定できるためである。





この他、X線により物質の微細構造を測定する測定装置として、高精度、高感度な蛍光X線分析装置等が提案されている(例えば、特許文献1、2参照)。

産業上の利用分野



本発明は、物質の微細構造を測定する測定装置及び測定方法に関する。

特許請求の範囲 【請求項1】
少なくとも5keV~30keVのエネルギ帯域の成分を含むX線を放射するX線源と、
前記X線源から放射されたX線を集光するポリキャピラリーレンズと、
前記集光素子によるX線の集光位置に対して、サンプルを進入退避可能に載置する試料台と、
前記集光位置から発散するX線を斜入射することにより、反射するX線を分光する分光結晶と、
前記分光結晶により分光されたX線の強度分布を検出する位置敏感X線検出器と、
を備え
前記分光結晶では、
前記X線が入射する部分が、所定のエネルギ帯域以上のX線を通過させる厚みとなっている、
定装置。

【請求項2】
所定のエネルギ帯域のX線だけを前記ポリキャピラリーレンズに入射させるフィルタをさらに備える、
ことを特徴とする請求項1に記載の測定装置。

【請求項3】
前記ポリキャピラリーレンズと前記分光結晶との間に、
前記ポリキャピラリーレンズに入射したX線のうち、前記ポリキャピラリーレンズにより集光されなかったX線の前記分光結晶への入射を遮断する遮断部が設けられている、
ことを特徴とする請求項1又は2に記載の測定装置。

【請求項4】
前記ポリキャピラリーレンズと前記分光結晶との間に、
所定のエネルギを超えるエネルギ帯域のX線を透過させ、所定のエネルギ以下のX線を全反射させるビームスプリッタをさらに備え、
前記分光結晶は、
前記ビームスプリッタで全反射したX線を斜入射する、
ことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の測定装置。

【請求項5】
X線源から放射された少なくとも5keV~30keVのエネルギ帯域の成分を含むX線を、ポリキャピラリーレンズを用いてサンプル上に集光する集光工程と、
集光位置から発散するX線を、入射部分が所定のエネルギ帯域以上のX線を通過させる厚みとなっている分光結晶斜入射することにより、反射するX線を分光する分光工程と、
前記分光結晶で分光されたX線の強度分布を、位置敏感X線検出器を用いて検出する検出工程と、
を含む測定方法。
国際特許分類(IPC)
Fターム
画像

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JP2009181704thum.jpg
出願権利状態 登録


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