TOP > 国内特許検索 > ナノ粒子、およびナノ粒子の製造方法

ナノ粒子、およびナノ粒子の製造方法

国内特許コード P120008166
整理番号 10114
掲載日 2012年11月1日
出願番号 特願2011-028872
公開番号 特開2012-167175
登録番号 特許第5873637号
出願日 平成23年2月14日(2011.2.14)
公開日 平成24年9月6日(2012.9.6)
登録日 平成28年1月22日(2016.1.22)
発明者
  • 齋藤 健一
  • 西尾 一志
出願人
  • 国立大学法人広島大学
発明の名称 ナノ粒子、およびナノ粒子の製造方法
発明の概要 【課題】発光強度の強いナノ粒子を提供する。
【解決手段】ナノ粒子10は、炭化水素1と、シリコンナノ粒子2とを備える。炭化水素1は、8個のカーボンが繋がった構造、6個のカーボンが繋がった構造、8個のカーボンと1個の酸素とが繋がった構造、2個のカーボンと1個の酸素とが繋がった構造、および1個のカーボンと1個の酸素とが繋がった構造のいずれかからなる。シリコンナノ粒子2は、炭化水素1のカーボンまたは酸素に接続される。そして、シリコンナノ粒子は、2~3nmの粒径を有する。
【選択図】図1
従来技術、競合技術の概要


従来、レーザアブレーションを用いてシリコン(Si)のナノ粒子を製造する方法が知られている(特許文献1)。



この方法は、二酸化炭素からなる超臨界流体中に単結晶シリコンを保持し、200mJ/パルス以上の強度を有するレーザ光を単結晶シリコンに照射して約2nmの直径を有するシリコンナノを製造するものである。

産業上の利用分野


この発明は、ナノ粒子、およびナノ粒子の製造方法に関するものである。

特許請求の範囲 【請求項1】
炭化水素と、前記炭化水素に含まれるカーボンまたは酸素に接続されたシリコンナノ粒子とを備え、2~3nmの粒径を最も多く有するナノ粒子の製造方法であって、
透明体からなる容器にシリコンの粉体および有機溶媒を入れる第1の工程と、
前記シリコンの粉体および有機溶媒の攪拌を開始する第2の工程と、
前記シリコンの粉体および有機溶媒を攪拌しながらパルスレーザを前記シリコンの粉体に照射する第3の工程とを備えるナノ粒子の製造方法。

【請求項2】
前記第1の工程において、オクチン、オクタノール、メタノール、エタノール、およびヘキセンのいずれかからなる有機溶媒を前記容器に入れる、請求項に記載のナノ粒子の製造方法。
国際特許分類(IPC)
Fターム
画像

※ 画像をクリックすると拡大します。

JP2011028872thum.jpg
出願権利状態 登録


PAGE TOP

close
close
close
close
close
close
close