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日焼けの原因遺伝子

国内特許コード P120008171
整理番号 S2011-0572
掲載日 2012年11月1日
出願番号 特願2011-071082
公開番号 特開2012-200251
登録番号 特許第5800180号
出願日 平成23年3月28日(2011.3.28)
公開日 平成24年10月22日(2012.10.22)
登録日 平成27年9月4日(2015.9.4)
発明者
  • 荻 朋男
  • 中沢 由華
  • 吉浦 孝一郎
  • 佐々木 健介
出願人
  • 国立大学法人 長崎大学
発明の名称 日焼けの原因遺伝子
発明の概要 【課題】本発明は、紫外線感受性症候群の原因となる遺伝子異常を解明することを目的とし、さらにNER欠損を伴う疾患の診断剤や、検査・診断方法を提供すること、並びにNER欠損の改善剤、NER欠損を伴う疾患の予防・治療剤を提供することを目的とする。
【解決手段】紫外線感受性症候群の原因遺伝子としてのKIAA1530遺伝子の提供。KIAA1530に対する抗体、KIAA1530をコードする塩基配列もしくはその一部を含む核酸、またはKIAA1530をコードする塩基配列若しくはその一部に相補的な塩基配列を含む核酸を含有してなる、NER欠損を伴う疾患(特に紫外線感受性症候群)の診断剤。
【選択図】なし
従来技術、競合技術の概要


ヌクレオチド除去修復(NER)には、日光誘導性紫外線(UV)光傷害や種々の付加型DNA損傷を取り除く働きがある。NER機構にはゲノム全体の損傷を修復するグローバルゲノムNER(GG-NER)機構と、転写されている遺伝子の転写鎖上の損傷を効率良く修復する転写共役NER(TC-NER)機構の2つのサブパスウェイが存在する。
ヒトでは、NER機構の欠落は光線過敏症を招くことが知られている。未修復のDNA損傷はRNA転写を妨害し、また、調整された遺伝子発現を妨げ、色素性乾皮症(XP)やコケーン症候群(CS)等で観察されるような、発達異常や全身異常をもたらす。
一方、紫外線感受性症候群(UVS)は、皮膚の光線過敏症及びしみ・そばかすによって特徴づけられる常染色体性劣性遺伝性皮膚疾患であるが、XPで報告されているような、皮膚がん等の酷い症状は認められない(非特許文献1、及び2)。
臨床的特徴が極めて軽度であるにも関わらず、UVS由来の線維芽細胞は重度のUV感受性を示し、転写と共役したNER(TC-NER)を欠いている(非特許文献2~4)。UVS患者の細胞で見られるUV照射に対するこれらの応答は、TC-NER欠損したCS患者の細胞で見られるものと区別がつかない(非特許文献2~4)。
UVSは、臨床的徴候が軽度であるので、積極的な研究が為されておらず、信頼できる報告が極めて限られているのが現状である。従ってUVSは過小診断されている傾向にある。1994年に初めて二人のUVS患者が報告され、確固たる根拠を持って報告されたものは世界中で7例のみである。



近年の研究から、7例の患者のうち3例で、UVSの原因となる変異が、コケーン症候群CSA遺伝子又はCSB遺伝子において同定された。残りの4例は、XP又はCSの相補性群のいずれにも属していなかったが、別の相補性群(UVSS-A)を形成していた(非特許文献1、5及び6)。しかしながら、その原因遺伝子(UVSA)はいまだ同定されていない。



NER活性の測定には、核酸の取り込みを指標とした修復機能を測定する方法が開発されている(特許文献1、非特許文献7)。当該方法は、非放射性核酸を用いて放射性核酸を使用する従来法と同等の精度と感度を確保し、NERのUDS(Unscheduled DNA Synthesis)及びRRS(Recovery RNA synthesis)活性の両方を測定することができる。

産業上の利用分野


本発明は、紫外線感受性症候群、具体的には日焼けの原因遺伝子に関する。詳細には、ヌクレオチド除去修復欠損を伴う疾患の診断剤や検査・診断方法、ヌクレオチド除去修復欠損を改善する物質のスクリーニング方法、ヌクレオチド除去修復欠損の改善剤、並びにヌクレオチド除去修復欠損を伴う疾患の予防・治療剤等に関する。

特許請求の範囲 【請求項1】
KIAA1530を特異的に認識する抗体KIAA1530をコードする塩基配列もしくはKIAA1530を特異的に認識するその一部、またはそれらに相補的な塩基配列を含む核酸を含有してなる、ヌクレオチド除去修復欠損を伴う疾患の診断剤。

【請求項2】
ヌクレオチド除去修復欠損を伴う疾患が、紫外線感受性症候群である、請求項記載の診断剤。

【請求項3】
KIAA1530のVHS領域における変異を検出することを特徴とする、紫外線感受性症候群の診断を補助するための検査方法。

【請求項4】
下記(a)~(c)の工程を含む、ヌクレオチド除去修復欠損を改善する物質のスクリーニング方法:
(a)KIAA1530を産生する能力を有する細胞を試験化合物の存在下および非存在下に培養する工程、
(b)両条件下における該蛋白質をコードするmRNAの量を、請求項1に記載される核酸を用いて測定、比較する工程、
(c)試験化合物の存在下での該蛋白質をコードするmRNAの量が、試験化合物非存在下の場合と比較して有意に上昇した場合に、該試験化合物を、ヌクレオチド除去修復欠損を改善する物質として選択する工程。

【請求項5】
下記(a)~(c)の工程を含む、ヌクレオチド除去修復欠損を改善する物質のスクリーニング方法:
(a)KIAA1530を産生する能力を有する細胞を試験化合物の存在下および非存在下に培養する工程、
(b)両条件下における該蛋白質の量を、請求項1に記載される抗体を用いて測定、比較する工程、
(c)試験化合物の存在下での該蛋白質の量が、試験化合物非存在下の場合と比較して有意に上昇した場合に、該試験化合物を、ヌクレオチド除去修復欠損を改善する物質として選択する工程。

【請求項6】
ヌクレオチド除去修復欠損を改善する物質が、紫外線感受性症候群を改善する物質である、請求項4又は5記載のスクリーニング方法。

【請求項7】
ヌクレオチド除去修復欠損を改善する物質が、日焼けを予防または改善する物質である、請求項4又は5記載のスクリーニング方法。

【請求項8】
KIAA1530の発現もしくは活性を賦活化する物質を含有してなる、ヌクレオチド除去修復欠損の改善剤であって、該物質が、下記(a)~(b)から選ばれる、改善剤
(a)KIAA1530蛋白質
(b)KIAA1530をコードする核酸

【請求項9】
ヌクレオチド除去修復欠損が転写と共役したタイプのものである、請求項記載の改善剤。

【請求項10】
請求項記載の改善剤を含む、ヌクレオチド除去修復欠損を伴う疾患の予防・治療剤。

【請求項11】
ヌクレオチド除去修復欠損を伴う疾患が、紫外線感受性症候群である、請求項10記載の剤。

【請求項12】
ヌクレオチド除去修復欠損が、皮膚がんを後発しない、請求項記載の剤。

【請求項13】
請求項記載の改善剤を含む、紫外線防護用の化粧品。
産業区分
  • 微生物工業
  • 有機化合物
  • 高分子化合物
  • 薬品
  • 試験、検査
国際特許分類(IPC)
Fターム
出願権利状態 登録
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