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ラジカル水 新技術説明会

国内特許コード P120008243
整理番号 S2012-0599-N0
掲載日 2012年11月14日
出願番号 特願2012-080016
公開番号 特開2013-208539
出願日 平成24年3月30日(2012.3.30)
公開日 平成25年10月10日(2013.10.10)
発明者
  • 石川 精一
  • 横野 照尚
  • 原賀 久人
  • 樋口 友彦
  • 西村 文夫
出願人
  • 公益財団法人北九州産業学術推進機構
  • 国立大学法人九州工業大学
  • 株式会社フジコー
  • 株式会社新菱
発明の名称 ラジカル水 新技術説明会
発明の概要

【課題】
本発明は、酸化還元電位が高く、物の濡れ性を高めることができ、塩類を含まず不純物が少なく、ヒドロキシラジカルの寿命が長くて、半導体等の精密洗浄水、親水剤、殺菌・洗浄水、静電気防止剤等の用途に好適に用いることができるラジカル水を提供する。
【解決手段】
水にオゾンを溶解させたオゾン水を原料とし、光触媒反応と、紫外線による水及びオゾンの分解反応と、によって生成されたヒドロキシルラジカルを活性酸素の主成分として含有したラジカル水であって、
オゾン水のオゾン濃度が4mg/L以上であるとともに、超音波発振器又は微細気泡発生装置によってラジカル水中に発生させた微細気泡にヒドロキシルラジカルが保持されることで、ヒドロキシルラジカルによる酸化力を5分以上残存させる構成を有している。
【選択図】図5

従来技術、競合技術の概要


従来から、活性酸素は生体内や自然界に存在し、スーパーオキシドアニオンラジカル(・O2-)、ヒドロキシルラジカル(OH・)、オゾン(O3)、過酸化水素(H22)、一酸化窒素(NO)、次亜塩素酸(HOCl)、一重項酸素(12)等がこれにあたる。これらの水溶液は、酸化力の高さから、脱臭や除菌、殺菌等に使用されている。しかし、スーパーオキシドアニオンラジカル(・O2-)やヒドロキシルラジカル(OH・)等の活性酸素種は、半減期が短く、汎用性に欠けるという課題があった。この課題を解決するために、(特許文献1)には、「イオン類を含有する水溶液に、紫外線照射された光触媒体で惹起された遊離電子および正孔(フォトン)を水と効率よく反応させことにより、活性酸素種を大量に発生させ、さらに水溶液中の溶質とを反応させることにより、前記溶質より生成したイオン種を含有する活性酸素水を生成し、優れた殺菌能および原虫類の駆虫能、有機物分解能を長時間保持作用する機能を有する活性酸素水を生成する、活性酸素水生成方法。」が開示されている。

産業上の利用分野


本発明は、半導体等の洗浄水や親水剤、殺菌洗浄水、静電気の防止水等の用途に使用できるラジカル水に関する。

特許請求の範囲 【請求項1】
水にオゾンを溶解させたオゾン水を原料とし、光触媒反応と、紫外線による水及びオゾンの分解反応と、によって生成されたヒドロキシラジカルを活性酸素の主成分として含有したラジカル水であって、
前記オゾン水のオゾン濃度が4mg/L以上であるとともに、超音波発振器又は微細気泡発生装置によって前記ラジカル水中に発生させた微細気泡に前記ヒドロキシラジカルが保持されることで、前記ヒドロキシルラジカルによる酸化力を5分以上残存させることを特徴とするラジカル水。

【請求項2】
前記水が超純水であることを特徴とする請求項1に記載のラジカル水。

【請求項3】
請求項2に記載のラジカル水を含有することを特徴とする半導体洗浄水。

【請求項4】
請求項1又は2に記載のラジカル水を含有することを特徴とする親水剤。

【請求項5】
請求項1又は2に記載のラジカル水を含有することを特徴とする殺菌洗浄水。
産業区分
  • 処理操作
  • 衛生設備
  • 混合分離
  • 無機化合物
  • 液体燃料・油脂
  • 固体素子
国際特許分類(IPC)
Fターム
画像

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JP2012080016thum.jpg
出願権利状態 審査請求前
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