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多孔質膜、多孔質構造体、それらの製造方法及びセンサ

国内特許コード P120008357
整理番号 S2011-0295
掲載日 2012年11月29日
出願番号 特願2011-001919
公開番号 特開2012-144588
登録番号 特許第5880995号
出願日 平成23年1月7日(2011.1.7)
公開日 平成24年8月2日(2012.8.2)
登録日 平成28年2月12日(2016.2.12)
発明者
  • 下山 勲
  • 松本 潔
  • グェン ビン キエム
出願人
  • 国立大学法人 東京大学
発明の名称 多孔質膜、多孔質構造体、それらの製造方法及びセンサ
発明の概要 【課題】パラキシリレン系ポリマーの新たな使用形態となり得る多孔質膜、多孔質構造体、それらの製造方法及びセンサを提供できるようにすることを目的とする。
【解決手段】CVD法による薄膜形成処理により、被蒸着液体からなる液体層6に、パリレンを蒸着させてゆき多孔質構造体1を形成する。これにより、多孔質構造体1には、液体層6の液体表面と接触した面に多孔質膜3を形成することができる。そして、多孔質構造体1は、液体層6から剥離することで、パリレン膜2上に有する多孔質膜3を外部に露出させ、当該多孔質膜3を種々の用途に用いることができる。かくして、本発明では、パラキシリレン系ポリマーの新たな使用形態となり得る多孔質膜3を提供できる。
【選択図】図1
従来技術、競合技術の概要


従来、電子部品や医療機器、自動車パーツ等の各種部材の表面をコートティングするコーティング材として、パリレンCやパリレンN等のパラキシリレン系ポリマー(以下、単にパリレンとも呼ぶ)が知られている(例えば、特許文献1及び2参照)。

産業上の利用分野


本発明は、多孔質膜、多孔質構造体、それらの製造方法及びセンサに関する。

特許請求の範囲 【請求項1】
パリレンからなり、表面が滑らかなパリレン膜と、
前記パリレンからなり、複数の微細な孔を有した多孔質状に形成され、前記パリレン膜の一面に設けられた多孔質膜とからなる
ことを特徴とする多孔質構造体

【請求項2】
表面が平坦に形成されている
ことを特徴とする請求項1記載の多孔質構造体

【請求項3】
内部に隙間のないパリレン膜の一面に形成されている多孔質膜であって、
パリレンからなり、複数の微細な孔を有した多孔質状に形成され、修飾物質を含む
ことを特徴とす多孔質膜。

【請求項4】
CVD(Chemical Vapor Deposition)法による薄膜形成処理の際に蒸発せずに残る液体からなる液体層を形成する第1のステップと、
前記CVD法によって前記液体層の液体表面にパリレンを蒸着させ、多孔質膜を形成する第2のステップと、
前記液体層から前記多孔質膜を剥離する第3のステップと
を備えることを特徴とする多孔質構造体の製造方法。

【請求項5】
CVD(Chemical Vapor Deposition)法による薄膜形成処理の際に蒸発せずに残る液体からなる液体層を形成する第1のステップと、
前記CVD法によって前記液体層の液体表面にパリレンを蒸着させ、多孔質膜を形成する第2のステップと、
前記液体層から前記多孔質膜を剥離する第3のステップとを備え、
前記第1のステップにおける前記液体層には、修飾物質が含有されており、
前記第2のステップでは、前記多孔質膜に前記修飾物質が含まれる
ことを特徴とす多孔質膜の製造方法。

【請求項6】
パリレンからなり、表面が滑らかなパリレン膜と、
前記パリレンからなり、複数の微細な孔を有した多孔質状に形成された多孔質膜とを備え、
前記多孔質膜が前記パリレン膜に所定パターンで形成されている
ことを特徴とする多孔質構造体。

【請求項7】
前記パリレン膜は親水性又は疎水性を有し、
前記多孔質膜は、前記パリレン膜が親水性又は疎水性であるかに応じて、該パリレン膜と異なる疎水性又は親水性を有している
ことを特徴とする請求項6記載の多孔質構造体。

【請求項8】
前記多孔質膜の一面に前記パリレン膜が形成され、該多孔質膜の他面に別のパリレン膜が形成され、2つの前記パリレン膜により前記多孔質膜が挟まれた構造を有する
ことを特徴とする請求項6又は7記載の多孔質構造体。

【請求項9】
前記多孔質膜が設けられた前記パリレン膜の一面と対向する他面に電極を備え、
前記多孔質膜又は前記パリレン膜のいずれかに導電性液体が貯溜されて形成された液体膨出部と、前記電極との間に電圧を印加することで、前記電極と前記導電性液体との固液界面のエネルギー変化により、前記液体膨出部の表面形状を変化させる
ことを特徴とする請求項6又は7記載の多孔質構造体。

【請求項10】
CVD(Chemical Vapor Deposition)法による薄膜形成処理の際に蒸発せずに残り、かつパリレンが蒸着可能な被蒸着液体からなる第1の液体層と、前記CVD法による薄膜形成処理の際に蒸発せずに残り、かつ前記パリレンが蒸着不可能な非蒸着液体からなる第2の液体層とを形成する第1のステップと、
前記CVD法によって前記第1の液体層の液体表面に前記パリレンを蒸着させて多孔質膜を形成し、前記第2の液体層に前記パリレンを蒸着させずに隙間を形成する第2のステップと、
前記第1の液体層から前記多孔質膜を剥離する第3のステップとを備え、
前記隙間を設けることで前記多孔質膜を所定のパターンに形成する
ことを特徴とする多孔質構造体の製造方法。

【請求項11】
気体を検知する検知手段が設けられた基板と、
パリレンからなり、複数の微細な孔を有した多孔質状に形成され、前記検知手段を覆うようにして前記基板上に設けられた請求項1に記載の多孔質構造体とを備え、
前記多孔質構造体の多孔質膜は、外部の気体を透過させて前記検知手段により該気体を検知させ、
前記検知手段は気体反応液体であり、該気体反応液体が前記基板上に貯溜されることにより液体層を形成し、該液体層を覆うように前記多孔質膜が形成されている
ことを特徴とするセンサ。

【請求項12】
気体を検知する検知手段が設けられた基板と、
前記検知手段を取り囲むように前記基板上に形成され、気体が透過する液体層と、
多孔質膜で前記液体層を覆うようにして前記基板上に設けられた請求項1に記載の多孔質構造体とを備え、
前記検知手段はトランスデューサであり、該トランスデューサが前記基板に配置されており、
前記多孔質構造体の多孔質膜は、外部の気体を透過させて前記液体層を介して前記トランスデューサまで該気体を到達させ、前記トランスデューサにより前記気体を検知させる
ことを特徴とすセンサ。
国際特許分類(IPC)
Fターム
画像

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JP2011001919thum.jpg
出願権利状態 登録
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