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光応答性高分子が形成されてなる成形物およびその利用 コモンズ

国内特許コード P130008824
整理番号 308
掲載日 2013年3月27日
出願番号 特願2011-002989
公開番号 特開2012-144610
登録番号 特許第5765729号
出願日 平成23年1月11日(2011.1.11)
公開日 平成24年8月2日(2012.8.2)
登録日 平成27年6月26日(2015.6.26)
発明者
  • 宮田 隆志
  • 浦上 忠
  • 小嶋 友里
出願人
  • 学校法人 関西大学
発明の名称 光応答性高分子が形成されてなる成形物およびその利用 コモンズ
発明の概要 【課題】鋳型を必要とせず、微細パターンの形成を3次元的に行うことを可能とする光応答性高分子を提供する。
【解決手段】本発明に係る光応答性高分子は、光の照射を受けて架橋構造を形成する光応答性基を含む高分子であって、光の光線量に応じた割合の光応答性基が架橋構造を形成することにより、上記光の光線量に応じた量の体積が減少するものである。上記光応答基は、光の照射を受けて互いに二量化する二量化基であることが好ましく、上記二量化基としては、シンナモイル基、クマリン基、チミン基、キノン基、マレイミド基、カルコン基およびウラシル基などが例示される。
【選択図】図1
従来技術、競合技術の概要


従来、微細パターンの形成にマイクロコンタクトプリント法、フォトレジスト法などが採用され、各種の分野にて応用されている。



上記マイクロコンタクトプリント法は、微細パターンを持つスタンプに分子を塗布し、スタンプを基板に密着させることによって基板等に微細パターンを形成する方法である。上記スタンプの作製は、光リソグラフィー等によって作製した鋳型をシリコーンゴム等に転写することによってなされる。スタンプの微細パターンはナノメートルオーダーである場合もあり、精密な鋳型形成が要求される。



また、基板でなく、高分子等の材料に対してスタンプを密着させることによって、微細パターンを形成することもできる。なお、マイクロコンタクトプリント法に関する一例として、特許文献1が挙げられる。



具体的な作製物としてはマイクロ流路が挙げられる。マイクロ流路は、マイクロ化学分析(μ-TAS)などに用いられ、デバイス要素を有するものである。このマイクロ流路は様々なプリント技術を用いて作製されているが、基板に対して、鋳型のプリント工程が必要である。



一方、フォトレジスト法では、光照射を受けた部分が溶媒に対して不溶化または可溶化するフォトレジストが使用される。当該方法では、上記材料に光を照射した後に溶媒を用いて可溶部を溶解させる現像という作業が必要であり、可溶部または不溶部の変化に基づくため、フォトレジストの残存の有無によって情報が記録される。



このようにマイクロコンタクトプリント法、フォトレジスト法などの微細加工技術はナノテクノロジーを支える重要な要素技術である。

産業上の利用分野


本発明は、光応答性高分子が形成されてなる成形物に関するものである。

特許請求の範囲 【請求項1】
光の照射を受けて架橋構造を形成する光応答性基を含む高分子であって、光の光線量に応じた割合の光応答性基が架橋構造を形成することにより、上記光の光線量に応じた量の体積が減少する光応答性高分子が、上記光応答性基に光の照射を受けて、光の光線量に応じた量の体積が減少することによって形成されてなり、3次元的な凹凸形状が形成されていることを特徴とする、成形物。

【請求項2】
上記光応答性高分子は、柔軟な高分子鎖を含み、
上記柔軟な高分子鎖は、上記光応答性基が架橋構造を形成するとき、上記架橋構造の形成に伴って体積変化することを特徴とする、請求項1に記載の成形物。

【請求項3】
上記光応答性基は、光の照射を受けて互いに二量化する二量化基であることを特徴とする、請求項1または2に記載の成形物。

【請求項4】
上記二量化基が、シンナモイル基、クマリン基、チミン基、キノン基、マレイミド基、カルコン基およびウラシル基からなる群から選ばれる少なくとも1種類の置換基を含むことを特徴とする、請求項3に記載の成形物。

【請求項5】
上記柔軟な高分子鎖は、ケイ素数が20以上、50000以下の、シロキサンおよびシリコーン;ならびに炭素数が20以上、50000以下のイソプレン、スチレン-ブタジエン、ブタジエン、エチレン-プロピレン、ブタジエン-ニトリル、クロロプレン、アクリルおよびウレタンからなる群から選ばれる少なくとも1種類の構造を含むことを特徴とする、請求項2に記載の成形物。

【請求項6】
マイクロ流路であることを特徴とする、請求項1~5の何れか1項に記載の成形物。

【請求項7】
ホログラムであることを特徴とする、請求項1~5の何れか1項に記載の成形物。

【請求項8】
表面レリーフであることを特徴とする、請求項1~5の何れか1項に記載の成形物。
国際特許分類(IPC)
Fターム
画像

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JP2011002989thum.jpg
出願権利状態 登録
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