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ポリエーテルケトン及びその製造方法 新技術説明会

国内特許コード P130009408
整理番号 S2013-0104-N0
掲載日 2013年6月18日
出願番号 特願2012-238242
公開番号 特開2014-088480
登録番号 特許第6021002号
出願日 平成24年10月29日(2012.10.29)
公開日 平成26年5月15日(2014.5.15)
登録日 平成28年10月14日(2016.10.14)
発明者
  • 木村 邦生
  • 山崎 慎一
  • 内田 哲也
  • 兼高 悠輔
出願人
  • 国立大学法人 岡山大学
発明の名称 ポリエーテルケトン及びその製造方法 新技術説明会
発明の概要 【課題】バイオマスから調製可能な化合物を原料とした、エンジニアリングプラスチックとして使用可能なポリエーテルケトンを提供する。
【解決手段】フランジカルボン酸ジクロリド(化合物A)と、(式2)で示される化合物Bと、



を重合させ、(式3)で示される繰り返し単位を有するポリエーテルケトンを生成させる重合ステップを含んでなる、製造方法。



(但し、式中、Arは、互いに同一又は異なってp-フェニレン基又はm-フェニレン基を示す。nは0又は正の整数を示す。)
【選択図】図5
従来技術、競合技術の概要



ポリエーテルケトンは、良好な物理的性質、高耐薬品性及び高耐熱性等といった好ましい性質を有することから、エンジニアリングプラスチックの一つとして既に様々なものが開発されてきた(例えば、特許文献1参照)。

特許文献1は、「高い機械的強度および強靭性を有し、電気的特性、熱酸化安定性および溶解性に優れた新規なポリエーテルケトンを提供する」(特許文献1、段落番号0005)ためになされた発明であり、「特定の構造を有するポリエーテルケトンの少なくとも一方の末端を、フェニルエチニル部分、プロパギルオキシ部分、シアネート部分及びオキサゾリン部分等の架橋基で置換することによって得られるポリマーは、高い機械的強度および強靭性を有し、電気的特性、熱酸化安定性、溶解性及び透明性に優れる上、架橋時に分子量の増加に伴い溶解性が低下するため、溶剤への溶出が抑えられて膜を容易に形成することができることを知得した。」(特許文献1、段落番号0008)ことに基づくポリエーテルケトンが開示されている。なお、特許文献1に係る特許出願は、特許第4875250号として特許されている。

産業上の利用分野



本発明は、ポリエーテルケトン及びその製造方法に関し、より詳細には、繰り返し単位中にフラン環を含むポリエーテルケトン及びその製造方法に関する。

特許請求の範囲 【請求項1】
(式1)で示される化合物Aと、
【化1】


(式2)で示される化合物Bと、
【化2】


(但し、式中、Arは、互いに同一又は異なってp-フェニレン基又はm-フェニレン基を示す。nは0又は1を示す。)
を重合させ、(式3)
【化3】


(但し、式中、Arは、互いに同一又は異なってp-フェニレン基又はm-フェニレン基を示す。nは0又は1を示す。)で示される繰り返し単位を有するポリエーテルケトンを生成させる重合ステップを含んでなる、製造方法。

【請求項2】
重合ステップが、イオン液体中で行われるものである、請求項1に記載の製造方法。

【請求項3】
前記イオン液体を構成するカチオンがイミダゾリウムカチオンである、請求項2に記載の製造方法。

【請求項4】
重合ステップが、塩化アルミニウムの存在下で行われるものである、請求項1乃至3のいずれか1に記載の製造方法。

【請求項5】
Arがいずれもp-フェニレン基である、請求項1乃至4のいずれか1に記載の製造方法。

【請求項6】
(式3)
【化3】


(但し、式中、Arは、互いに同一又は異なってp-フェニレン基又はm-フェニレン基を示す。nは0又は1を示す。)で示される繰り返し単位を有するポリエーテルケトン。

【請求項7】
Arがいずれもp-フェニレン基である、請求項6に記載のポリエーテルケトン。

【請求項8】
窒素雰囲気中加熱による10%重量減少温度が390℃以上である、請求項6又は7に記載のポリエーテルケトン。

【請求項9】
還元粘度が0.2dl/g以上である、請求項6乃至8のいずれか1に記載のポリエーテルケトン。
国際特許分類(IPC)
Fターム
画像

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出願権利状態 登録
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