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含ケイ素ポリマーおよびその製造方法並びに光学材料 コモンズ

国内特許コード P130010016
掲載日 2013年10月31日
出願番号 特願2008-121152
公開番号 特開2009-269989
登録番号 特許第5322491号
出願日 平成20年5月7日(2008.5.7)
公開日 平成21年11月19日(2009.11.19)
登録日 平成25年7月26日(2013.7.26)
発明者
  • 西久保 忠臣
  • 工藤 宏人
  • 宮坂 誠
出願人
  • 学校法人神奈川大学
発明の名称 含ケイ素ポリマーおよびその製造方法並びに光学材料 コモンズ
発明の概要

【課題】屈折率が低く、優れた耐熱性を有する新規な含ケイ素ポリマーおよびその製造方法並びに光学材料を提供する。
【解決手段】含ケイ素ポリマーは、下記で表されるものである。

【選択図】なし

従来技術、競合技術の概要


近年、光学レンズ、光学フィルム、光ファイバー、光導波路などの光学製品に用いられる光学材料としては、軽量、成形加工性などの観点から、ガラスなどの無機材料に代わり有機高分子材料が使用されている。かかる有機高分子材料としては、目的とする光学製品に要求される、屈折率や、透明性、低複屈折性、低光伝送損失性、高耐熱性などの光学特性に応じて種々のものが用いられており、低屈折率が要求される光学材料としては、主に含フッ素ポリマーが用いられている。
然るに、フッ素などのハロゲンを含有する化合物は、焼却時にダイオキシンなどの有害物質が発生するものであるため、環境負荷低減化の観点から、非フッ素系のポリマーの開発が望まれている。
そして、最近においては、優れた耐熱性、透明性を有する有機-無機ハイブリッド材料として、シルセスキオキサン誘導体から得られる、分枝骨格を有する含ケイ素ポリマーが提案されている(特許文献1乃至特許文献4等参照。)




【特許文献1】特開2006-70049号公報

【特許文献2】特開2007-182528号公報

【特許文献3】特開2007-298841号公報

【特許文献4】特開2007-308527号公報

産業上の利用分野


本発明は、シルセスキオキサン骨格を有する含ケイ素ポリマーおよびその製造方法、並びにこの含ケイ素ポリマーよりなる光学材料に関する。

特許請求の範囲 【請求項1】
下記式(1)で表される含ケイ素ポリマー。
【化学式1】



〔式(1)において、Rは、フェニル基を示し、Xは、下記式(a)、下記式(b)または下記式(c)で表される3価の基を示す。〕
【化学式2】



〔式(c)において、R1 は、シクロペンチル基またはシクロヘキシル基を示す。〕

【請求項2】
下記式(2)で表されるシルセスキオキサン誘導体と、下記式(3)で表されるトリビニル化合物とをヒドロシリル化反応させることを特徴とする含ケイ素ポリマーの製造方法。
【化学式3】



〔式(2)において、Rは、フェニル基を示し、式(3)において、Xは、請求項1に記載の式(a)、式(b)または式(c)で表される3価の基を示す。〕

【請求項3】
請求項1に記載の含ケイ素ポリマーよりなることを特徴とする光学材料
産業区分
  • 高分子化合物
  • 光学装置
国際特許分類(IPC)
Fターム
出願権利状態 権利存続中
本技術について、ライセンスや共同研究等をご希望の方は、下記「問合せ先」まで直接お問い合わせください。


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