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自己組織化酸化物ナノ粒子を用いたナノインプリント用モールドおよびその製造方法、ならびに当該モールドを用いた転写方法 コモンズ

国内特許コード P130010141
掲載日 2013年12月11日
出願番号 特願2013-223852
公開番号 特開2015-085549
出願日 平成25年10月29日(2013.10.29)
公開日 平成27年5月7日(2015.5.7)
発明者
  • 廣芝 伸哉
  • 市川 洋
出願人
  • 国立大学法人 名古屋工業大学
発明の名称 自己組織化酸化物ナノ粒子を用いたナノインプリント用モールドおよびその製造方法、ならびに当該モールドを用いた転写方法 コモンズ
発明の概要 【課題】簡便、安価、かつ微細パターンを有するナノインプリント用モールドおよびその製造方法、ならびに当該モールドを用いた転写方法を提供する
【解決手段】自己組織化で形成され、モールドの凸部表面の少なくとも一部が酸化物であるナノインプリント用モールド。有機金属化合物を含む有機溶液を基板上に塗布し、乾燥させ、さらに600℃~900℃、大気中にて焼成し、さらにリアクティブイオンエッチングを行い、ナノインプリント用モールドを製造する。このナノインプリント用モールドを用いて、硬化性樹脂あるいは光硬化性樹脂にパターンを転写する。
【選択図】図4
従来技術、競合技術の概要



微細パターンを形成する手段として、光リソグラフィ、電子ビーム、あるいはイオンビーム等があるが、それらは設備投資が高額となるため、LSIあるいはディスプレイ等の応用に限定される。一方、ナノインプリント法は、微細構造の形成プロセスが単純であるため、低コストのプロセスとして種々の分野への適用が期待されている。ナノインプリント法は、形成すべきパターンと等倍のパターンを有するモールド(鋳型)を予め用意して、モールドのパターンを被加工基板上に形成された樹脂膜に直接押し付けることにより、樹脂膜にパターンを転写する技術である。離型時には転写されたパターンが維持されるように固化していることが必要であり、熱硬化型樹脂、光硬化型樹脂等が使用され、ナノメートルからマイクロメートルの構造を簡便、低コストでできる特徴がある(特許文献1参照)。





前述のように、ナノインプリント法は、転写という点において、簡便かつ低コストの技術である。一方、例えば200nm以下のパターンを有するナノインプリント用のモールドを作製するにはEBリソグラフィや液浸フォトリソグラフィが利用されるが、これらの方法は大面積化が難しく非常にコストがかかる。このようなリソグラフィ技術を用いず、特許文献2のようにポリマーの自己組織化を用いてモールド作製を試みられているが、一般にポリマーはRIE (反応性イオンエッチング)に対するエッチング耐性が低く、高いアスペクト比のパターンが得られにくい。

産業上の利用分野



本発明は光学デバイスあるいはバイオデバイス等に用いられる精密転写用モールドに関する。

特許請求の範囲 【請求項1】
自己組織化で形成され、モールドの凸部表面の少なくとも一部が酸化物であるナノインプリント用モールド。

【請求項2】
前記酸化物が酸化タングステンである請求項1に記載のナノインプリント用モールド。

【請求項3】
有機金属化合物を含む有機溶液を基板上に塗布し、乾燥し、さらに600℃~900℃、大気中にて焼成することにより得られるナノインプリント用モールドの製造方法。

【請求項4】
焼成の後に、リアクティブイオンエッチングを行う請求項3に記載のナノインプリント用モールドの製造方法。

【請求項5】
請求項3または4に記載の製造方法で得られたナノインプリント用モールドを用いて、熱硬化性樹脂あるいは光硬化性樹脂に当該モールドに形成されたパターンを転写する転写方法。
国際特許分類(IPC)
Fターム
画像

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JP2013223852thum.jpg
出願権利状態 公開
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