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窒素原子を含む環構造を有する光学活性な芳香族化合物の製法 コモンズ

国内特許コード P130010190
整理番号 NU-0521
掲載日 2013年12月27日
出願番号 特願2013-123423
公開番号 特開2014-240365
出願日 平成25年6月12日(2013.6.12)
公開日 平成26年12月25日(2014.12.25)
発明者
  • 石原 一彰
  • ウヤヌク ムハメット
  • 鈴木 大介
出願人
  • 国立大学法人名古屋大学
発明の名称 窒素原子を含む環構造を有する光学活性な芳香族化合物の製法 コモンズ
発明の概要 【課題】窒素原子を含む環構造を有する光学活性な芳香族化合物であって修飾基を高収率かつ光学純度を保持したままで除去できるものを、高収率かつ高エナンチオ選択的に得る製造法の提供。
【解決手段】ベンゼン環を構成する隣り合う2つの炭素原子における、一方に-NHR11(R11はアレーンスルホニル基である)で表されるアミノ基が、他方に-R13-CHR15-C(=O)-Z(R13は、置換基を有していてもよいメチレン又はエチレンであり、R15は、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基又は置換基を有していてよいシクロアルキル基であり、Zは、置換基を有していてもよいヘテロアリール基である)が結合している芳香族化合物を基質として用い、該基質を、N-スピロC2軸不斉四級アンモニウムヨージド及び酸化剤が供給されてなる系にて反応させ、前記アミノ基に由来する窒素原子を含む環構造を有する芳香族化合物を得る。
【選択図】なし
従来技術、競合技術の概要



生理活性物質、医薬品、農薬、化粧品等を製造する際の中間体として、2-アシルインドリン誘導体などが知られている。こうした中間体は、最終製品の作用等の観点から、光学活性化合物を用いることがある。本発明者らは、特許文献1において、N-スピロC2軸不斉四級アンモニウムヨージドと酸化剤とを用いる分子内酸化的環化反応をケトアニリン誘導体に適用することにより2-アシルインドリン誘導体を良好なエナンチオ選択率(不斉収率)で定量的に得ることに成功した(下記式参照、特許文献1の実施例1-31)。





【化1】




産業上の利用分野



本発明は、窒素原子を含む環構造を有する光学活性な芳香族化合物の製法に関する。

特許請求の範囲 【請求項1】
ベンゼン環を構成する隣り合う2つの炭素原子における、一方に-NHR11(R11はアレーンスルホニル基である)で表されるアミノ基が、他方に-R13-CHR15-C(=O)-Z(R13は、置換基を有していてもよいメチレン又はエチレンであり、R15は、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基又は置換基を有していてよいシクロアルキル基であり、Zは、置換基を有していてもよいヘテロアリール基である)が結合している芳香族化合物を基質として用い、該基質を、N-スピロC2軸不斉四級アンモニウムヨージド及び酸化剤が供給されてなる系にて反応させ、前記アミノ基に由来する窒素原子を含む環構造を有する芳香族化合物の製法。

【請求項2】
前記芳香族化合物を製造したあと、更に、-C(=O)-ZのC-Z結合の開裂及び前記窒素原子上のR11の脱保護を順不同で行う、請求項1に記載の製法。

【請求項3】
前記R11は、p-トルエンスルホニル基、4-ニトロベンゼンスルホニル基、2-ニトロベンゼンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基又は2,4-ジニトロベンゼンスルホニル基である、請求項1又は2に記載の製法。

【請求項4】
前記R15は、水素原子である、請求項1~3のいずれか1項に記載の製法。

【請求項5】
前記Zは、Zは1-アリール-イミダゾ-2-イル、1-アリール-ピラゾ-2-イル、2-アリール-1,2,4-トリアゾ-3-イル、1-アリール-テトラゾ-2-イル又はこれらとアリール環との縮合環である、請求項1~4のいずれか1項に記載の製法。

【請求項6】
前記基質は、下記式(1)で表される化合物であり、
前記アミノ基に由来する窒素原子を含む環構造を有する化合物は、下記式(2)で表される化合物である、請求項1~5のいずれか1項に記載の製法。
【化1】


【化2】


(式(1),(2)中、R11,R13,R15及びZは前出の通りであり、R21~R24は、それぞれ独立して、水素原子、電子求引基若しくは電子供与基であるか又は隣接するいずれか2つが1~5個の炭素を介して結合して環を形成している)

【請求項7】
前記アンモニウムヨージドが下記一般式(3)~(8)で表されるアンモニウムヨージドである、請求項1~6のいずれか1項に記載の製法。
【化3】


(式(3)~(8)中、Rは水素原子、フェニル基、アルキル基を有するフェニル基、ペルフルオロアルキル基を有するフェニル基、アルコキシ基を有するフェニル基又はアリール基を有するフェニル基である)

【請求項8】
前記Rは、3,5-ビス(3,5-ビス(トリフルオロメチル)フェニル)フェニル基又は3,5-ビス(トリフルオロメチル)フェニル基である、請求項7に記載の製法。

【請求項9】
前記酸化剤は、有機ヒドロペルオキシドである、請求項1~8のいずれか1項に記載の製法。
国際特許分類(IPC)
Fターム
出願権利状態 公開
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