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中空構造を有するセラミックス多孔体の低温製造方法 コモンズ 外国出願あり

国内特許コード P010000529
整理番号 U1999P068
掲載日 2002年9月30日
出願番号 特願平11-255280
公開番号 特開2001-080976
登録番号 特許第3060017号
出願日 平成11年9月9日(1999.9.9)
公開日 平成13年3月27日(2001.3.27)
登録日 平成12年4月28日(2000.4.28)
発明者
  • 高井 治
  • 杉村 博之
  • 穂積 篤
出願人
  • 学校法人名古屋大学
発明の名称 中空構造を有するセラミックス多孔体の低温製造方法 コモンズ 外国出願あり
発明の概要 ナノメートルスケールの細孔構造を有するセラミックス多孔体の形成方法に関する発明である。界面活性剤等の有機分子集合体である多形状の鋳型の回りに、無機-有機構造を有するセラミックス前駆体が付着させる工程を繰り返したのち、光酸化で鋳型及びセラミックス前駆体中の界面活性剤を除去することで、ナノメートルスケールの細孔構造を有するセラミックス多孔体が形成される。セラミックス材料またはその前駆体は、シリカ骨格、チタニア骨格、アルミナ骨格等の無機骨格で形成する。光酸化は200℃以下の雰囲気温度で波長の短い真空紫外光(波長172nmのエキシマレーザー)を照射して行うのが効率的である。シリカ前駆体混合水溶液を、CVD処理したシリコン基板の液面に浮かべて室温放置後、エキシマレーザー照射すると、界面活性剤が除去された約2.98nmの細孔構造のシリカ骨格が形成された。
従来技術、競合技術の概要 メソポーラス(2-50nm)あるいはマクロポーラス(50nm以上)材料を製造するには、界面活性剤等の有機分子集合体である鋳型の回りに、無機-有機構造を有するセラミックス前駆体が付着させる超分子鋳型法があるが、従来熱または酸処理界面活性剤を除去していたので、材料内部に応力起因のクラックや剥離などの不具合があった。
産業上の利用分野 エキシマレーザー照射による光酸化を利用した、ナノメートルスケールの細孔構造を有するセラミックス多孔体の低温製造方法。
エキシマレーザー照射による光酸化、
吸着、分離用セラミックス多孔体
特許請求の範囲 【請求項1】 界面活性剤の分子集合体、界面活性剤分子と所定の有機分子を共存させた集合体及び異種の界面活性剤の分子集合体から選択した集合体を鋳型として用い、該集合体とセラミック材料あるいは該セラミック材料の前駆体とを混合して無機-有機構造を有するセラミックス多孔体の前駆体を形成し、該セラミック多孔体の前駆体中の界面活性剤を光酸化により除去することで、ナノメートルスケールの細孔構造を有するセラミックス多孔体を低温で形成することを特徴とするセラミックス多孔体の製造方法。

【請求項2】 該無機-有機構造を有するセラミックス多孔体の前駆体のセラミック材料あるいは該セラミック材料の前駆体が、真空紫外光を透過する材料から選ばれたものである請求項第1項に記載の製造方法。

【請求項3】 該無機-有機構造を有するセラミックス多孔体の前駆体のセラミック材料あるいは該セラミック材料前駆体が、真空紫外光を吸収し、光触媒作用により電子を放出する材料から成る群から選ばれたものである請求項第1項に記載の製造方法。

【請求項4】 真空紫外光を照射することによって該無機-有機構造を有するセラミックス多孔体の前駆体中の界面活性剤を除去する請求項第1項に記載の製造方法。

【請求項5】 該無機-有機構造を有するセラミックス多孔体の前駆体を200℃以下の雰囲気下で真空紫外光を照射することによってセラミックス多孔体の前駆体中の界面活性剤を除去する請求項第1項に記載の製造方法。

【請求項6】 該無機-有機構造を有するセラミックス多孔体の前駆体を薄膜形状に形成する請求項第1項乃至第5項のいずれかに記載の製造方法。

【請求項7】 該無機-有機構造を有するセラミックス多孔体の前駆体を微粒状形状に形成する請求項第1項乃至第5項のいずれかに記載の製造方法。
産業区分
  • 窯業
国際特許分類(IPC)
Fターム
画像

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出願権利状態 権利存続中
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