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光学活性プロパルギル位トリフルオロメチル基含有化合物及びその製造方法 コモンズ

国内特許コード P140011129
掲載日 2014年12月1日
出願番号 特願2014-216164
公開番号 特開2016-084289
出願日 平成26年10月23日(2014.10.23)
公開日 平成28年5月19日(2016.5.19)
発明者
  • 柴田 哲男
  • 西峯 貴之
  • 平等 尋巳
  • 福士 和伸
  • 徳永 恵津子
出願人
  • 国立大学法人 名古屋工業大学
発明の名称 光学活性プロパルギル位トリフルオロメチル基含有化合物及びその製造方法 コモンズ
発明の概要 【課題】不斉有機触媒を用いた直接的エナンチオ選択的トリフルオロメチル基導入法を鍵反応とした光学活性プロパルギル位トリフルオロメチル基含有化合物の合成法開発。
【解決手段】発明者らは鍵反応としてモレキュラーシーブス存在下,トリフルオロメチルトリメチルシランとシンコナアルカロイド触媒を用い,プロパルギルフルオリドに対する直接的エナンチオ選択的トリフルオロメチル基導入法の開発に成功し,目的物である光学活性なプロパルギル位トリフルオロメチル基含有化合物を得ることに成功した。
【選択図】なし
従来技術、競合技術の概要


光学活性含フッ素有機化合物はフッ素が持つ特異的な性質により,創薬,機能性材料などの高機能性分子開発における魅力的な合成素子として注目を集めている。特に光学活性プロパルギル位トリフルオロメチル基含有化合物は抗HIV薬で知られるEfavirenzをはじめ,創薬化学で注目を集める合成素子である。その立体選択的合成例はいくつか報告されているが,特に触媒的エナンチオ選択的な手法の開発は現在も発展途上である。光学活性なプロパルギル位トリフルオロメチル基含有化合物の合成アプローチには直接法と間接法の大きく2つの手法が考えられる。まず一つ目はプロキラルなトリフルオロメチル基含有ビルディングブロックに対する不斉プロパルギル化反応に代表される間接法である。本手法を用いたα-トリフルオロメチルケトン類(非特許文献1),α-トリフルオロメチルイミン類(非特許文献2),及びβ-トリフルオロメチル-α,β-エノン類(非特許文献3)に対するエナンチオ選択的プロパルギル化反応が開発されているが,予めフッ素官能基を有した原料の多段階合成が必要となる問題点がある。二つ目はアルキニルケトン類に対する直接的な不斉トリフルオロメチル化反応である。本アプローチは合成の最終段階でフッ素官能基を導入できる点で間接法よりも優れていると考えられる。しかしながらその実施例は以前発明者らが見出した例に限られる。具体的には,筆者らは各種アルキニルケトン類に対し,シンコナアルカロイド由来の相間移動触媒存在下,トリフルオロメチルトリメチルシラン(Ruppert-Prakash試薬)を作用させることで高立体選択的にプロパルギル位トリフルオロメチルアルコールが得られることを見出した(非特許文献4,5,6)。以上のように,光学活性プロパルギル位トリフルオロメチル基含有化合物の合成法がいくつか開発されているが,そのほとんどがケトン類やイミン類に対する付加反応で合成されることから,不斉炭素に酸素や窒素などのヘテロ原子を持たない合成例は間接的な手法を用いた1例のみであり(非特許文献3),未だ直接的なトリフルオロメチル基導入法は開発されていない。今回我々が開発に成功した本製造法はこの問題点を解決する直接的エナンチオ選択的なプロパルギル位不斉トリフルオロメチル基導入法である。この製造方法により合成された光学活性プロパルギル位トリフルオロメチル基含有化合物は医薬・農薬合成における,魅力的な新規合成素子として期待できる。

産業上の利用分野



本発明は,光学活性プロパルギル位トリフルオロメチル基含有化合物及びその製造方法に関するものである。

特許請求の範囲 【請求項1】
下記一般式(1)で表されるプロパルギルフルオリドと,トリフルオロメチルトリメチルシランを溶媒中,モレキュラーシーブス及び触媒量のシンコナアルカロイド触媒存在下で反応させることにより,下記一般式(2)で表される光学活性プロパルギル位トリフルオロメチル基含有化合物を高エナンチオ選択的に製造する方法。
【化1】



(式中,R,R及びRは水素原子,置換もしくは未置換のアルキル基,アルケニル基,アルキニル基,アラルキル基,アリール基,アリールオキシ基,アルコキシ基,アミノ基,アルキルチオ基,カルボキシ基,カルバモイル基,ヒドロキシル基,シアノ基,又はニトロ基を示す。式中,Rは水素原子,置換もしくは未置換のアルキル基,アルケニル基,アルキニル基,アラルキル基,又はアリール基を示す。なおRおよびRが一体となって,ヘテロ原子の介在もしくは非介在で環状構造の一部を形成してもよい。)

【化2】



(式中,R,R,R及びRは上記一般式(1)に記載のR,R,R及びRと同じものを示す。)


【請求項2】
下記一般式(2)で示される,光学活性プロパルギル位トリフルオロメチル基含有化合物。
【化3】



(式中,R,R,R及びRは上記一般式(1)に記載のR,R,R及びRと同じものを示す。)
国際特許分類(IPC)
Fターム
出願権利状態 公開
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