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凹凸構造体の製造方法、パターン形成用モールドの製造方法、及びパターン形成用モールド コモンズ

国内特許コード P150011174
掲載日 2015年1月23日
出願番号 特願2013-188175
公開番号 特開2014-073682
出願日 平成25年9月11日(2013.9.11)
公開日 平成26年4月24日(2014.4.24)
優先権データ
  • 特願2012-201948 (2012.9.13) JP
発明者
  • 谷口 淳
出願人
  • 学校法人東京理科大学
発明の名称 凹凸構造体の製造方法、パターン形成用モールドの製造方法、及びパターン形成用モールド コモンズ
発明の概要 【課題】ばらつきの小さい凹凸パターンを有する凹凸構造体を提供する。
【解決手段】凹凸構造体の製造方法は、ラインアンドスペースパターンの凹凸構造を有するパターン形成用モールドをインプリント材に押しあて、上記パターン形成用モールドの形状を上記インプリント材に転写する転写工程と、上記インプリント材から上記パターン形成用モールドを離型する離型工程と、を含み、上記凹凸構造が、光硬化性組成物を硬化させて形成したラインアンドスペースパターンの硬化膜をラインの長手方向に一軸延伸することによりパターン間隔を狭小化せしめたものであることを特徴とする。
【選択図】図1
従来技術、競合技術の概要



ナノインプリント技術は、ナノメートルオーダーのモールドを用いて微細加工を行う技術であり、半導体等の電子デバイス、光デバイス、記録メディア等への利用が検討されている。近年、特に半導体デバイスの分野では、より一層の微細化が要求されており、従来技術によってフィルム上に形成されたラインアンドスペースパターン等の凹凸パターンを、フィルムを変形させることによって縮小するプロセスが提案されている。しかし、これらはポリスチレン樹脂(特許文献1を参照)、ポリエーテルスルフォン樹脂、ポリエチレン樹脂(特許文献2を参照)等、いずれも熱可塑性樹脂を用いたものであった。

産業上の利用分野



本発明は、凹凸構造体の製造方法、パターン形成用モールドの製造方法、及びパターン形成用モールドに関する。

特許請求の範囲 【請求項1】
ラインアンドスペースパターンの凹凸構造を有するパターン形成用モールドをインプリント材に押しあて、前記パターン形成用モールドの形状を前記インプリント材に転写する転写工程と、
前記インプリント材から前記パターン形成用モールドを離型する離型工程と、を含み、
前記凹凸構造が、光硬化性組成物を硬化させて形成したラインアンドスペースパターンの硬化膜をラインの長手方向に一軸延伸することによりパターン間隔を狭小化せしめたものであることを特徴とする凹凸構造体の製造方法。

【請求項2】
前記光硬化性組成物がウレタン(メタ)アクリレートを含む請求項1記載の凹凸構造体の製造方法。

【請求項3】
支持体上に光硬化性組成物を塗布して塗布膜を形成する塗布工程と、
前記塗布膜にラインアンドスペースパターンのモールドを押しあてた状態で該塗布膜に光を照射することにより、ラインアンドスペースパターンの凹凸構造を有する硬化膜を形成する硬化工程と、
前記硬化膜から前記モールドを離型する離型工程と、
前記硬化膜をラインアンドスペースパターンのラインの長手方向に一軸延伸することによりパターン間隔を狭小化せしめる延伸工程と、
を含むことを特徴とするパターン形成用モールドの製造方法。

【請求項4】
前記延伸工程では、前記支持体とともに前記硬化膜を一軸延伸する請求項3記載のパターン形成用モールドの製造方法。

【請求項5】
前記硬化膜から前記モールドを離型した後に、前記支持体から前記硬化膜を剥離する剥離工程を更に含み、
前記延伸工程では、剥離後の前記硬化膜を一軸延伸する請求項3記載のパターン形成用モールドの製造方法。

【請求項6】
前記光硬化性組成物がウレタン(メタ)アクリレートを含む請求項3から5のいずれか1項記載のパターン形成用モールドの製造方法。

【請求項7】
ラインアンドスペースパターンの凹凸構造を有するパターン形成用モールドであって、
前記凹凸構造が、光硬化性組成物を硬化させて形成したラインアンドスペースパターンの硬化膜をラインの長手方向に一軸延伸することによりパターン間隔を狭小化せしめたものであることを特徴とするパターン形成用モールド。

【請求項8】
前記光硬化性組成物がウレタン(メタ)アクリレートを含む請求項7記載のパターン形成用モールド。
国際特許分類(IPC)
Fターム
画像

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JP2013188175thum.jpg
出願権利状態 公開
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