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透明磁性金属膜とその製造方法 コモンズ

国内特許コード P150012131
掲載日 2015年7月3日
出願番号 特願2015-032022
公開番号 特開2016-154192
出願日 平成27年2月20日(2015.2.20)
公開日 平成28年8月25日(2016.8.25)
発明者
  • 生田 博志
  • 畑野 敬史
  • 飯田 和昌
  • 角谷 直紀
  • 千原 真志
出願人
  • 国立大学法人名古屋大学
発明の名称 透明磁性金属膜とその製造方法 コモンズ
発明の概要 【課題】金属の薄膜でありながら光を透過する透明磁性金属膜とその製造方法を提供する。
【解決手段】透明磁性金属膜体100は、基板110と、透明磁性金属膜120と、を有している。透明磁性金属膜120は、Feを成分とするものである。透明磁性金属膜120では、400nm以上1000nm以下の波長領域にわたって光の透過率が50%以上である。また、この透明磁性金属膜120は、強磁性を示す薄膜である。
【選択図】図2
従来技術、競合技術の概要


磁性薄膜は、ハードディスクドライブの磁気ヘッド、磁気センサー、電流センサー、電力センサー、といった広範にわたる応用分野を有する技術である。



例えば、Fe-Pt系の合金がハードディスクドライブの媒体用材料として用いられている。特許文献1には、Pt-Fe-Pを成分とする磁性薄膜について開示されている。PtとFeに、Pを添加して合金化することにより、Pt-Fe二元系合金よりも低い温度で規則化することができる磁性薄膜が得られる旨が開示されている(特許文献1の段落[0008])。

産業上の利用分野


本明細書の技術分野は、透明磁性金属膜とその製造方法に関する。

特許請求の範囲 【請求項1】
透明磁性金属膜において、
Feを成分とするものであり、
400nm以上1000nm以下の波長領域にわたって光の透過率が50%以上であること
を特徴とする透明磁性金属膜。

【請求項2】
請求項1に記載の透明磁性金属膜において、
電気絶縁性であること
を特徴とする透明磁性金属膜。

【請求項3】
請求項1または請求項2に記載の透明磁性金属膜において、
平均膜厚は30nm以下の範囲内であること
を特徴とする透明磁性金属膜。

【請求項4】
請求項1から請求項3までのいずれか1項に記載の透明磁性金属膜において、
基板に成膜されたものであり、
前記基板の格子定数とα-Feの格子定数とが、次式
0.01 ≦ |b1-b2|/b1 ≦ 0.10
a1:α-Feの格子定数
a2:基板の格子定数
b1=(2)12 ×a1 または b1=a1
b2=a2/n
n:自然数
を満たす自然数nが存在すること
を特徴とする透明磁性金属膜。

【請求項5】
透明磁性金属膜の製造方法において、
真空容器に基板を配置し、
前記真空容器の内圧を10-5Pa以下とし、
第1の温度の前記基板にFeを成膜し、
前記第1の温度より高い第2の温度で前記基板を熱処理すること
を特徴とする透明磁性金属膜の製造方法。

【請求項6】
請求項5に記載の透明磁性金属膜の製造方法において、
前記第2の温度は、
670℃以上1000℃以下の範囲内であること
を特徴とする透明磁性金属膜の製造方法。

【請求項7】
請求項5または請求項6に記載の透明磁性金属膜の製造方法において、
平均膜厚を30nm以下の範囲内として成膜すること
を特徴とする透明磁性金属膜の製造方法。

【請求項8】
請求項5から請求項7までのいずれか1項に記載の透明磁性金属膜の製造方法において、
前記基板の格子定数とα-Feの格子定数とが、次式
0.01 ≦ |b1-b2|/b1 ≦ 0.10
a1:α-Feの格子定数
a2:基板の格子定数
b1=(2)12 ×a1 または b1=a1
b2=a2/n
n:自然数
を満たす自然数nが存在するような前記基板を用いること
を特徴とする透明磁性金属膜の製造方法。

【請求項9】
請求項5から請求項8までのいずれか1項に記載の透明磁性金属膜の製造方法において、
分子線エピタキシー法により前記基板にFeを成膜すること
を特徴とする透明磁性金属膜の製造方法。
国際特許分類(IPC)
Fターム
画像

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JP2015032022thum.jpg
出願権利状態 公開
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