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薄膜基板と半導体装置とこれらの製造方法および成膜装置および成膜方法およびGaNテンプレート (未公開特許出願) コモンズ

国内特許コード P150012132
掲載日 2015年7月3日
出願番号 特願2015-031708
出願日 平成27年2月20日(2015.2.20)
発明の名称 薄膜基板と半導体装置とこれらの製造方法および成膜装置および成膜方法およびGaNテンプレート (未公開特許出願) コモンズ
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