TOP > 国内特許検索 > 希土類金属の回収方法

希土類金属の回収方法 UPDATE

国内特許コード P150012181
整理番号 H24-032
掲載日 2015年8月5日
出願番号 特願2012-266082
公開番号 特開2014-111802
登録番号 特許第6090737号
出願日 平成24年12月5日(2012.12.5)
公開日 平成26年6月19日(2014.6.19)
登録日 平成29年2月17日(2017.2.17)
発明者
  • 吉本 信子
  • 森田 昌行
  • 江頭 港
  • 佐川 洋行
出願人
  • 国立大学法人山口大学
発明の名称 希土類金属の回収方法 UPDATE
発明の概要 【課題】 本発明は、工業化に耐え得る希土類金属の回収方法であり、特に廃棄されたネオジム磁石や該磁石作製時に生ずる削りくず等の磁性体等の回収に有用な技術を提供する。
【解決手段】電解槽内において、少なくとも希土類金属イオンが溶存するジアルキルスルホンの溶液を電解処理して、陰極表面に希土類金属を電析することを特徴とする希土類金属の回収方法である。
【選択図】 なし
従来技術、競合技術の概要


希土類金属は、発火合金、特殊レンズ、蛍光体、レーザー、永久磁石、ガラス等の着色剤、光磁気記録装置等、種々の工業材料に用いられているが、その資源は、比較的少なく、しかも、偏在しており、需要の増加により、価格の高騰が懸念される元素であり、近年そのリサイクルの研究が多くなされている。しかし、現状では、必ずしも合理的なプロセスが開発されているとは言い難い。例えば、1000℃以上の過酷な条件であったり、回収率が低く、結局高コストとなり、工業的実現性に問題があった。



例えば、希土類合金をハライド化合物の溶融塩に浸漬し、該溶融塩に希土類元素のハロゲン化合物を溶出させ、蒸気として回収する方法(特許文献1)、希土類元素を含むレニウム溶液から、レニウムを回収した後、残渣液から、希土類金属の酸化物を得、これを溶融塩電解して希土類金属を回収する方法(特許文献2)。或いは溶融塩電解に際し、陽極と陰極との間を、希土類金属合金からなるバイポーラー電極型核膜で分画して、陽極室に希土類金属イオンを供給し、陰極に希土類金属又はその合金を電析させる方法(特許文献3)等が提案されているが、これらは溶融塩電解によるため、1000℃又はそれ以上の高温を必要とし、エネルギー的にも、また装置としても高価となる欠点があった。また、NbFeB磁石の削りくずや、スラグについて、酢酸やスルファミン酸を電解質液として用い、電解により鉄を分離した後、フッ化水素を加えて、フッ化ネオジムの沈殿を採取する方法(特許文献4)、本発明者らによるイットリウムやジスプロシウムに対してジメチルホルムアミド中での電析の報告(被特許文献1,2)等も知られているが、前者における電解は、鉄を除去するだけであり、希土類はフッ化物となるため、別途還元工程等を必要とする。また後者は、希土類金属イオンのジメチルホルムアミドへの溶解度が小さく、高電流密度での電析に難点があった。



そこで本発明は、より効率よく、工業化に耐え得る希土類金属の回収方法を検討することを目的とするものである。

産業上の利用分野


本発明は、電析により希土類金属を回収する方法であり、特に電解に用いる溶媒として、ジアルキルスルホンを用いることを特徴とする希土類金属の回収方法に関する。

特許請求の範囲 【請求項1】
電解槽内において、希土類金属イオンと希土類金属以外の金属イオンとが溶存するジアルキルスルホンの溶液を電解処理して、陰極表面に希土類金属を電析する希土類金属の回収方法において、電析時の電位及び陰極過電圧の相違による電解時の電流値の変化に基づき、希土類金属の回収における初期又は終期を定めることを特徴とする希土類金属の回収方法。

【請求項2】
ジアルキルスルホンが次式(1)で表わされる化合物であることを特徴とする請求項1記載の希土類金属の回収方法。
【化1】



【請求項3】
希土類金属がネオジムである請求項1又は2記載の希土類金属の回収方法。

【請求項4】
希土類金属がジスプロシウムである請求項1又は2記載の希土類金属の回収方法。

【請求項5】
陽極として、粗希土類金属又は希土類合金を用い、該陽極から、ジアルキルスルホン溶液中に少なくとも希土類金属イオンを供給しつつ電解を行うことを特徴とする請求項1乃至のいずれか1項に記載の希土類金属の回収方法。

【請求項6】
陽極がネオジム磁性物である請求項記載の希土類金属の回収方法。
国際特許分類(IPC)
Fターム
出願権利状態 登録
山口TLOは平成11年11月に山口大学の教官50名の出資により設立された、リエゾン一体型のTLO活動会社です。山口大学を主とし、山口県内の大学・高専の研究成果をご紹介致します。特許の内容に興味を持たれた方は、下記までご連絡ください。


PAGE TOP

close
close
close
close
close
close
close