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分離フィルタの製造方法

国内特許コード P150012496
掲載日 2015年10月28日
出願番号 特願2014-220030
公開番号 特開2015-110218
出願日 平成26年10月29日(2014.10.29)
公開日 平成27年6月18日(2015.6.18)
優先権データ
  • 特願2013-225304 (2013.10.30) JP
発明者
  • 都留 稔了
  • 王 金輝
  • ゴン ゲンハオ
  • 金指 正言
  • 吉岡 朋久
出願人
  • 国立大学法人広島大学
発明の名称 分離フィルタの製造方法
発明の概要 【課題】Si-X-Si結合(Xは直鎖状飽和アルキル鎖或いは直鎖状不飽和アルキル鎖)が切れず、また、製造コストの安い分離フィルタの製造方法を提供する。
【解決手段】分離フィルタの製造方法は、(RO)Si-X-Si(OR)で表される化合物と水を含む溶媒とを混合してポリマーゾルを調製するポリマーゾル調製工程と、ポリマーゾルを膜状又は中空状の多孔質から構成される耐熱性高分子支持体上に塗布する塗布工程と、焼成して耐熱性高分子支持体上に-Si-X-Si-結合を有する無機有機ハイブリッド膜を形成する焼成工程と、を含む。(上記Xは、1つ以上の水素が置換されていてもよい直鎖状飽和炭化水素鎖又は直鎖状不飽和炭化水素鎖を表し、Rはアルキル基を表す。)
【選択図】図1
従来技術、競合技術の概要


液体又は気体からの目的物の捕集、分離する際や海水から純水を得る際に、透過選択性を有する分離膜が広く利用されている。シリカなどのセラミック材料を含む無機膜は優れた気体的強度、耐熱性、耐溶剤性を有することから、多孔質膜材料として研究、開発がなされ、近年では、高分子膜をしのぐ高い分離性、透過性を示すことが明らかになってきている。一方で、無機膜は、モジュールあたりの重量が重いこと、硬さ、脆さなどの欠点がある。



このため、有機基材と無機或いは無機有機ハイブリッド材料による分離層とを組み合わせ、軽さ、柔軟性を備えた分離膜の開発が試みられている。例えば、非特許文献1では、有機基材上にハイブリッドシリカ膜を形成する試みが行われている。この分離膜は、プラズマCVD(Chemical Vapor Deposition)法を利用し、ポリアミドイミド上にハイブリッドシリカ膜(製膜原料:ビストリエトキシシリルエタン(BTESE))を形成している。

産業上の利用分野


本発明は、分離フィルタの製造方法に関する。

特許請求の範囲 【請求項1】
(RO)Si-X-Si(OR)で表される化合物と水を含む溶媒とを混合してポリマーゾルを調製するポリマーゾル調製工程と、
前記ポリマーゾルを膜状又は中空状の多孔質から構成される耐熱性高分子支持体上に塗布する塗布工程と、
焼成して前記耐熱性高分子支持体上に-Si-X-Si-結合を有する無機有機ハイブリッド膜を形成する焼成工程と、を含む、
ことを特徴とする分離フィルタの製造方法。
(上記Xは、1つ以上の水素が置換されていてもよい直鎖状飽和炭化水素鎖又は直鎖状不飽和炭化水素鎖を表し、Rはアルキル基を表す。)

【請求項2】
前記耐熱性高分子支持体がポリスルホン、ポリエーテルスルホン、スルホン化ポリスルホン、スルホン化ポリエーテルスルホン、ポリイミド、ポリテトラフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデン及びこれらの誘導体からなる群から選択される高分子化合物から形成されている、
ことを特徴とする請求項1に記載の分離フィルタの製造方法。

【請求項3】
100℃より高く400℃より低い温度で焼成する、
ことを特徴とする請求項1又は2に記載の分離フィルタの製造方法。

【請求項4】
100℃以上200℃以下で焼成する、
ことを特徴とする請求項3に記載の分離フィルタの製造方法。
国際特許分類(IPC)
Fターム
画像

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JP2014220030thum.jpg
出願権利状態 公開


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