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発光材料の製造方法 新技術説明会

国内特許コード P150012498
掲載日 2015年10月28日
出願番号 特願2014-175855
公開番号 特開2015-063679
出願日 平成26年8月29日(2014.8.29)
公開日 平成27年4月9日(2015.4.9)
優先権データ
  • 特願2013-180315 (2013.8.30) JP
発明者
  • 平栗 健二
  • 佐藤 慶介
  • 北澤 駿
出願人
  • 学校法人東京電機大学
発明の名称 発光材料の製造方法 新技術説明会
発明の概要 【課題】比較的安価かつ簡易に高品質な発光材料を大量合成することが可能な発光材料の製造方法を提供する。
【解決手段】可視領域で蛍光発光するシリコン化合物ナノ・マイクロ粒子(発光材料)の製造方法であって、シリコン粉末1と、フッ硝酸溶液2と、シリコン基板3とを、密閉容器7内に区分して配置する配置ステップ(S01)と、配置ステップにおいてシリコン粉末1、フッ硝酸溶液2、シリコン基板3を内部に配置した密閉容器7を密閉する密閉ステップ(S02)と、密閉ステップにおいて密閉された密閉容器7の密閉状態を所定時間保持する保持ステップ(S03)と、保持ステップの後に密閉容器7内のシリコン基板3上に生成されたシリコン化合物ナノ・マイクロ粒子を採取する採取ステップ(S04)と、を含む。
【選択図】図2
従来技術、競合技術の概要


近年、例えば環境材料の1つであるシリコンナノ粒子(Si-NPs)など、可視領域で蛍光発光する発光材料が注目されており、医療、工業、太陽電池分野などでの応用が期待されている。このような発光材料の製造方法としては、ドライプロセスによる製造方法や、ウェットプロセスによる製造方法が知られている(例えば特許文献1)。

産業上の利用分野


本発明は、発光材料の製造方法に関する。

特許請求の範囲 【請求項1】
可視領域で蛍光発光する発光材料の製造方法であって、
シリコン原料と、シリコンを溶解可能なエッチング媒体と、前記シリコンを含む材料により形成される基板とを、密閉空間内に区分して収容する収容ステップと、
前記収容ステップにおいて前記シリコン原料、前記エッチング媒体及び前記基板が収容された前記密閉空間の密閉状態を所定時間保持する保持ステップと、
前記保持ステップの後に前記密閉空間内の前記基板上に生成された前記発光材料を採取する採取ステップと、
を含むことを特徴とする発光材料の製造方法。

【請求項2】
前記収容ステップが、
前記シリコン原料、前記エッチング媒体、及び前記基板を、容器内に区分して配置する配置ステップと、
前記配置ステップにおいて前記シリコン原料、前記エッチング媒体及び前記基板を内部に配置した前記容器を密閉して前記密閉空間を形成する密閉ステップと、
を含むことを特徴とする、請求項1に記載の発光材料の製造方法。

【請求項3】
前記シリコン原料がシリコン粉末であり、前記エッチング媒体がフッ硝酸溶液であり、前記基板がシリコン基板である、請求項1または2に記載の発光材料の製造方法。
国際特許分類(IPC)
Fターム
画像

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JP2014175855thum.jpg
出願権利状態 公開
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