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吸着剤および口臭除去剤

国内特許コード P160012728
整理番号 (S2014-0758-N0)
掲載日 2016年1月27日
出願番号 特願2015-058802
公開番号 特開2015-193000
出願日 平成27年3月20日(2015.3.20)
公開日 平成27年11月5日(2015.11.5)
優先権データ
  • 特願2014-059178 (2014.3.20) JP
発明者
  • 横川 善之
  • 堀田正人
  • 藤井和夫
  • 森田侑宜
出願人
  • 公立大学法人大阪市立大学
  • 学校法人朝日大学
発明の名称 吸着剤および口臭除去剤
発明の概要 【課題】悪臭の原因となる硫化水素を効果的に吸着する吸着剤が要望されている。従来技術としては、2価金属をMg、3価金属をAlとしたハイドロタルサイトが提案されていた。しかし、このハイドロタルサイトは合成後層構造を消失させる程の熱処理を行う必要があった。また、水分の存在によって硫化水素の吸着能が低下した。
【解決手段】(2)式の構造を有するハイドロタルサイトを含有し、液相中の揮発性硫黄化合物を吸着することを特徴とする吸着剤。
[Zn2+1-xAl3+(OH)][CO2-X/2・mHO] (2)
ここで0<x<1であり、mはゼロより大きな整数である。この吸着剤は、液相および気相を選ばず、合成後の熱処理を行うことなく、硫化水素を非常によく吸着する。
【選択図】なし
従来技術、競合技術の概要


ハイドロタルサイトは、アニオン交換機能を有する層状複水酸化物で一般式は、(1)式のように表される。
[M2+3+(OH)2m+2n]Xn/zZ- bHO (1)



ここで、M2+は、Mg、Ca、Sr、Cu、Ba、Zn、Cd、Pb、NiおよびSnから選択される少なくとも1つの2価の金属であり、M3+はAl、Fe、Cr、Ga、Ni、Co、Fe、Mn、Cr、V、Ti、Inであり、m、nは実数であり、XZ-はZ価アニオンであり、bは実数である。



例えばM2+としてZnを選択した場合においても、ハイドロタルサイトは、さまざまな局面で吸着剤として利用されている。例えば特許文献1では、亜硝酸イオンを吸着させている。また、特許文献2では、硝酸イオンを吸着させている。



また特許文献3では、銀を回収するために、ハイドロタルサイトに銀を吸着させている。また特許文献4では、フッ化水素を除去するために、ハイドロタルサイトにフッ化水素を吸着させている。



被吸着物質の中でも、硫黄化合物が主となる硫化水素やメチルメルカプタンといった悪臭原物質を吸着し消臭する要望は高い。特許文献5では、硫酸ヒドロキシルアミンと有機ヒドラジド化合物と、酸化亜鉛とスメクタイトの混合物にハイドロタルサイトを含有させたものが硫化水素に対する吸着性(消臭性)を有するという報告がされている。



また、口臭除去剤として、液相中の揮発性硫黄化合物(VSC:Volatile Sulfer Compounds)をハイドロタルサイトに吸着させるという発明がある(特許文献6参照)。ここでは、M2+としてMgが選ばれた例が開示されている。

産業上の利用分野


本発明は揮発性硫黄化合物、特に硫化水素をよく吸着する吸着剤に関わるものである。

特許請求の範囲 【請求項1】
(2)式の構造を有するハイドロタルサイトを含有し、液相中の揮発性硫黄化合物を吸着することを特徴とする吸着剤。
[Zn2+1-xAl3+(OH)][CO2-X/2・mHO] (2)
ここで0<x<1であり、mはゼロより大きな整数である

【請求項2】
(3)式若しくは(4)式の構造を有するハイドロタルサイトを含有し、液相中の揮発性硫黄化合物を吸着することを特徴とする吸着剤。
[Mg2+1-x+Fe3+(OH)][CO2-X/2・mHO] (3)
[Mg2+1-x+Fe3+(OH)][Cl・mHO] (4)
ここで0<x<1であり、mはゼロより大きな整数である

【請求項3】
さらに水を含有することを特徴とする請求項1または2の何れか1の請求項に記載された吸着剤。

【請求項4】
前記xは0.33であることを特徴とする請求項1の請求項に記載された吸着剤。

【請求項5】
請求項1乃至4のいずれかの請求項に記載の吸着剤を有する口臭除去剤。
国際特許分類(IPC)
Fターム
出願権利状態 公開


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