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軟磁性体 新技術説明会

国内特許コード P160012836
掲載日 2016年3月10日
出願番号 特願2009-125647
公開番号 特開2010-010668
登録番号 特許第5170776号
出願日 平成21年5月25日(2009.5.25)
公開日 平成22年1月14日(2010.1.14)
登録日 平成25年1月11日(2013.1.11)
優先権データ
  • 特願2008-137141 (2008.5.26) JP
発明者
  • 藤田 行俊
  • 石川 智仁
  • 中島 浩二
  • 五十嵐 貴教
  • 木村 久道
  • 牧野 彰宏
  • 井上 明久
出願人
  • 国立研究開発法人科学技術振興機構
発明の名称 軟磁性体 新技術説明会
発明の概要 【課題】 本発明の解決すべき課題は、優れた磁気特性とともに成形性に優れた軟磁性・強磁性体を提供することにある。

【解決手段】 金属ガラス粉が溶射により積層された、下記特性を有する軟磁性体。
保磁力:150A/m以下
酸素濃度:0.3質量%以下
鉄濃度:30質量%以上
金属ガラスの過冷却液体温度領域ΔTx:30℃以上
【選択図】 図7
従来技術、競合技術の概要


最近、電子デバイスの小型化の進展が著しく、そのため近年においては数MHz-GHzという高い周波数の使用に耐えうる高性能な材料が求められている。例えば、現在電源トランスなどで最も多く用いられている材料として、Mn-Zn系フェライトが挙げられるが、この材料は100KHz程度の低周波域においては高透磁率かつ低損失であり、磁心材料として優れた特性を有するが、高周波領域になると損失が大きくなり、特性が低下してしまう。
以上のような要求に答える材料として金属ガラスが注目されている。
例えば、金属ガラス粉の焼結体からなる軟磁性材(特許文献1)、金属ガラスリボンをトロイダル状に巻回した積層鉄心(特許文献2)、或いは金属ガラス粉末を溶射により筒状体に積層させて得た鉄心(特許文献3)などが知られている。
しかしながら、金属ガラス自体は優れた磁気特性を有するものの、圧粉成形体、或いは焼結体としたような場合には磁気特性の低下が認められ、またリボン(箔材)を用いた場合には適用形状等の面で限界があり、金属ガラスが本来有する優れた磁気特性を発揮できないでいた。

産業上の利用分野


本発明は軟磁性体、特に金属ガラスを主成分とする軟磁性・強磁性体の改良に関する。

特許請求の範囲 【請求項1】
金属ガラス粉が溶射により積層された、下記特性を有する軟磁性体。
保磁力:150A/m以下
酸素濃度:0.3質量%以下
鉄濃度:30質量%以上
金属ガラスの過冷却液体温度領域ΔTx:30℃以上

【請求項2】
請求項1記載の軟磁性体において、酸素濃度が0.2質量%以下であり、保磁力が100A/m以であることを特徴とする軟磁性体。

【請求項3】
請求項1及び2記載の軟磁性体において、前記金属ガラスはFe・Si・B・P系であり、Pはガラス形成能を高める元素として含まれることを特徴とする軟磁性体。

【請求項4】
請求項3記載の軟磁性体において、前記金属ガラスはFe・Si・B・P・C系であり、Cはガラス形成能を補助的に高める元素として含まれることを特徴とする軟磁性体。

【請求項5】
請求項4記載の軟磁性体において、前記金属ガラスはFe76Si5.79.53.8であることを特徴とする軟磁性体。

【請求項6】
請求項4記載の軟磁性体において、前記金属ガラスはFe・Si・B・P・C・M系であり、溶射による酸化を防止するための酸化防止元素としてMを含み、
前記Mは、Cr、Nb、Ta、W、Ni、Co、Hf、Moのいずれかの元素であることを特徴とする軟磁性体。

【請求項7】
請求項6記載の軟磁性体において、前記金属ガラスはFe76―XSi5.79.53.8であり、Xが0.5以上、10以下であることを特徴とする軟磁性体。

【請求項8】
請求項1~7のいずれかに記載の軟磁性体において、被膜厚は50μm以上であることを特徴とする軟磁性体。

【請求項9】
請求項1~8のいずれかに記載の軟磁性体は、高速フレーム溶射法もしくはプラズマ溶射法で形成されていることを特徴とする軟磁性体。
国際特許分類(IPC)
Fターム
画像

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JP2009125647thum.jpg
出願権利状態 登録
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