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成膜装置

国内特許コード P160013197
整理番号 S2015-0077-N0
掲載日 2016年8月9日
出願番号 特願2014-224440
公開番号 特開2016-088802
出願日 平成26年11月4日(2014.11.4)
公開日 平成28年5月23日(2016.5.23)
発明者
  • 竹内 希
  • 中谷内 裕徳
出願人
  • 国立大学法人東京工業大学
発明の名称 成膜装置
発明の概要 【課題】DLC等をはじめとする薄膜を高速に形成可能な成膜装置を提供する。
【解決手段】成膜装置1は、ターゲット4上に薄膜を形成する。容器10は、有機溶媒4を収容するとともに、有機溶媒2中にターゲット4を支持する。アノード電極20は、容器10内の有機溶媒4中に設けられる。電源30は、アノード電極20とターゲット4の間に、アノード電極側を正とする直流成分を含む高電圧を印加する。
【選択図】図1
従来技術、競合技術の概要


耐摩擦性、耐腐食性、高硬度、ガスバリア性を具備する材料として、ダイヤモンドライクカーボン(DLC)が注目されており、機械部品、電子部品、医療機器などへの応用が期待されている。



炭素系薄膜を形成する技術として、当初、低気圧放電プラズマを用いた技術が開発されたが、真空装置が必要であることから、装置が大型、高コストであるという問題があった。近年、真空装置が不要な大気圧放電プラズマを用いた成膜技術の開発が進められている(非特許文献1、特許文献1参照)。

産業上の利用分野


本発明は、プラズマを利用した成膜装置に関する。

特許請求の範囲 【請求項1】
有機溶媒を収容するとともに、前記有機溶媒中にターゲットを支持する容器と、
前記容器内の前記有機溶媒中に設けられたアノード電極と、
前記アノード電極と前記ターゲットの間に、前記アノード電極側を正とする直流成分を含む高電圧を印加する電源と、
を備えることを特徴とする成膜装置。

【請求項2】
前記有機溶媒はエタノールを含み、ダイヤモンドライクカーボン膜が形成されることを特徴とする請求項1に記載の成膜装置。

【請求項3】
前記エタノールの濃度は、75%~85%であることを特徴とする請求項2に記載の成膜装置。

【請求項4】
前記有機溶媒はベンゼンを含み、ダイヤモンドライクカーボン膜が形成されることを特徴とする請求項1に記載の成膜装置。

【請求項5】
前記アノード電極は、その先端が前記ターゲットと対向して配置される針状電極であることを特徴とする請求項1から4のいずれかに記載の成膜装置。

【請求項6】
前記アノード電極は、メッシュ電極であることを特徴とする請求項1から4のいずれかに記載の成膜装置。
国際特許分類(IPC)
Fターム
画像

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JP2014224440thum.jpg
出願権利状態 公開
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