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シクロヘキサノンの製造方法

国内特許コード P160013289
整理番号 H23-012D
掲載日 2016年9月8日
出願番号 特願2011-147917
公開番号 特開2013-014535
登録番号 特許第5822191号
出願日 平成23年7月4日(2011.7.4)
公開日 平成25年1月24日(2013.1.24)
登録日 平成27年10月16日(2015.10.16)
発明者
  • 山本 豪紀
  • 杉本 常実
出願人
  • 国立大学法人山口大学
発明の名称 シクロヘキサノンの製造方法
発明の概要 【課題】シクロヘキサンをコバルト触媒を用いて酸化させる際に、選択性良く高効率でシクロヘキサノンを製造することができるシクロヘキサノンの製造方法を提供する。
【解決手段】シクロヘキサンを酸素又は酸素含有ガスと接触させて、コバルト化合物を触媒として酸化させるシクロヘキサノンの製造方法であって、前記酸化処理は、無溶媒で行うことを特徴とするシクロヘキサノンの製造方法である。
【選択図】なし
従来技術、競合技術の概要


シクロヘキサノンは、カプロラクタム、ナイロン、アジピン酸の製造原料、高沸点溶剤、剥離剤、金属等の洗浄剤、染料の安定剤など、様々な分野で用いられている。中でも特に、カプロラクタムの原料として有用であり、カプロラクタムの製造量のうち、およそ90%以上がシクロヘキサノンのオキシムを経由する方法によって製造されている。そして、シクロヘキサノンは、シクロヘキサンの酸化もしくはフェノールの水素化によって製造されており、シクロヘキサノン製造量の約80%がシクロヘキサン酸化法に基づいている。



しかし、シクロヘキサノンの従来の製造方法は、その転化率が低いという欠点を有する。加えて、これらの反応からは様々なシクロヘキサンの酸化生成物の分解物が生成するので、生成物選択率が80%を超えることは難しい。



例えば、特許文献1及び2には、極性プロトン溶剤及び極性非プロトン溶剤から選択される溶剤中において、反応媒体に溶解させた触媒の存在下、酸素又は酸素含有ガスにより、炭化水素、アルコール及び/又はケトンが液相で酸化しカルボン酸となることが記載されている。

産業上の利用分野


本発明は、シクロヘキサンをコバルト化合物を触媒として酸化することによりラクタム原料として有用なシクロヘキサノンを選択性良く製造する方法に関する。

特許請求の範囲 【請求項1】
シクロヘキサンを酸素又は酸素含有ガスと接触させて、コバルト化合物のみを触媒として酸化させるシクロヘキサノンの製造方法であって、
前記酸化処理は、無溶媒で行い、
前記コバルト化合物が、硝酸コバルト、アセチルアセトンコバルト、塩化コバルト及び炭酸コバルト並びにそれらの水和物より選ばれる1以上であることを特徴とするシクロヘキサノンの製造方法。

【請求項2】
コバルト化合物が、硝酸コバルト六水和物であることを特徴とする請求項1記載のシクロヘキサノンの製造方法。
国際特許分類(IPC)
Fターム
出願権利状態 登録
山口TLOは平成11年11月に山口大学の教官50名の出資により設立された、リエゾン一体型のTLO活動会社です。山口大学を主とし、山口県内の大学・高専の研究成果をご紹介致します。特許の内容に興味を持たれた方は、下記までご連絡ください。


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