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高分子配位子及び液晶性高分子錯体 NEW

国内特許コード P160013497
整理番号 S2015-0805-N0
掲載日 2016年11月10日
出願番号 特願2015-049556
公開番号 特開2016-169292
出願日 平成27年3月12日(2015.3.12)
公開日 平成28年9月23日(2016.9.23)
発明者
  • 氏家 誠司
  • 那谷 雅則
出願人
  • 国立大学法人 大分大学
発明の名称 高分子配位子及び液晶性高分子錯体 NEW
発明の概要 【課題】遷移金属元素と錯体を形成することができ、また、錯形成することで液晶性を示し、さらには、錯形成した際に優れた流動性を示すことのできる高分子配位子を提供する。
【解決手段】メソゲン基あるいはフェニレン基を有するジオールと、アミノ基を有するジオールと、前記ジオールとの間でウレタン結合を形成するジイソシアナートと、の三種を共重合させることにより合成したコポリウレタンよりなることとした。また、アミノ基を有するジオールは一般式[I]で表されることや、メソゲン基あるいはフェニレン基を有するジオールは一般式[II]で表されること、ジイソシアナートは一般式[III]で表されることにも特徴を有する。
【選択図】図1
従来技術、競合技術の概要


各種容器やフィルム、化学繊維製品や家電製品の筐体に至るまで、我々の生活において樹脂は欠かせない存在となっている。



これら種々の加工製品に用いられる樹脂は、その用途等に応じた特性を備える必要があるため、今日に至るまで様々な種類のものが提案されている。



中でも液晶性を示す高分子材料は、優れた機械的強度や耐熱性、耐薬品性など今までにない機能性を発揮できる樹脂の原料として注目されており、盛んに研究が行われている。



本発明者らは過去に、遷移金属原子と錯形成した液晶性を示す高分子であり、特定方向において極めて高い強度を示したり、遷移金属原子の種類に応じた色を呈したり、また、光に対して運動性を示すという極めてユニークな液晶性高分子金属錯体を提供している(例えば、特許文献1参照。)。



この液晶性高分子金属錯体によれば、樹脂成形加工分野や、色素材料等を取り扱う工業分野、樹脂シート、イオン伝導チャンネルをもつフィルム等の製造分野など、実に様々な分野における利用が将来的に有望視できる。

産業上の利用分野


本発明は、高分子配位子及び液晶性を有する高分子錯体に関する。

特許請求の範囲 【請求項1】
メソゲン基あるいはフェニレン基を有するジオールと、
アミノ基を有するジオールと、
前記ジオールとの間でウレタン結合を形成するジイソシアナートと、の三種を共重合させることにより合成したコポリウレタンよりなる高分子配位子。

【請求項2】
前記アミノ基を有するジオールは、下記一般式[I]:
【化1】


(ただし、pは2~6の整数を意味し、qは2~6の整数を意味し、R1は炭素数1~6のアルキル基又はフェニル基を意味する。)
で表されることを特徴とする請求項1に記載の高分子配位子。

【請求項3】
前記メソゲン基あるいはフェニレン基を有するジオールは、下記一般式[II]:
【化2】


(ただし、式中R2は、
【化3】


のいずれかの基を意味する。sは2~12の整数を意味し、tは2~12の整数を意味する。)
で表されることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の高分子配位子。

【請求項4】
前記ジイソシアナートは、下記一般式[III]:
【化4】


(ただし、式中R3は、
【化5】


のいずれかの基を意味する。xは2~8の整数を意味する。)
で表されることを特徴とする請求項1~3いずれか1項に記載の高分子配位子。

【請求項5】
下記一般式[IV]:
【化6】


(ただし、式中R1は炭素数1~6のアルキル基又はフェニル基を意味し、R2は、
【化7】


のいずれかの基を意味し、R3は、
【化8】


のいずれかの基を意味する。nは0を超え0.7以下の値を意味し、pは2~6の整数を意味し、qは2~6の整数を意味し、sは2~12の整数を意味し、tは2~12の整数を意味し、xは2~8の整数を意味する。)
で表されることを特徴とする高分子配位子。

【請求項6】
請求項1~5いずれか1項に記載の高分子配位子と、遷移金属イオンとを有し、
前記高分子配位子が有するアミノ基及びウレタン結合を前記遷移金属イオンに配位させて構成した液晶性高分子金属錯体。

【請求項7】
メソゲン基あるいはフェニレン基を有するジオールと、
アミノ基を有するジオールと、
前記ジオールとの間でウレタン結合を形成するジイソシアナートと、の三種を共重合させることにより合成するコポリウレタンよりなる高分子配位子の製造方法。

【請求項8】
前記アミノ基を有するジオールの共重合組成割合nを0<n≦0.7とし、
前記メソゲン基あるいはフェニレン基を有するジオールの共重合組成割合1-nとして合成することを特徴とする請求項7に記載の高分子配位子の製造方法。
国際特許分類(IPC)
Fターム
画像

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JP2015049556thum.jpg
出願権利状態 公開
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