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アミド化合物の製造方法 NEW

国内特許コード P160013595
整理番号 H26-079
掲載日 2016年12月28日
出願番号 特願2015-057937
公開番号 特開2016-175870
出願日 平成27年3月20日(2015.3.20)
公開日 平成28年10月6日(2016.10.6)
発明者
  • 山本 豪紀
出願人
  • 国立大学法人山口大学
発明の名称 アミド化合物の製造方法 NEW
発明の概要 【課題】副生成物の生成を抑制して高選択率でアミド化合物を製造できるアミド化合物の製造方法を提供する。
【解決手段】オキシム化合物をベックマン転位反応させることによりアミド化合物を製造する方法において、(A)コバルト塩及びニッケル塩のうちいずれか1以上、(B)マグネシウム塩及びナトリウム塩のうちいずれか1以上、並びに(C)シリカゲルから構成される触媒の存在下でベックマン転位反応させることを特徴とするアミド化合物の製造方法である。
【選択図】なし
従来技術、競合技術の概要


オキシム化合物のベックマン転位によるアミド化合物への変換反応は、出発原料と目的生成物とを構成する元素の種類と数とが全く同じである“アトムエコノミー(atom economy)”100%の反応である。工業的なアミド化合物の製造方法としては、液相中で濃硫酸や発煙硫酸などの強酸を使用してシクロヘキサノンオキシムをベックマン転位反応させてε-カプロラクタムを製造する方法が良く知られているが、該方法では生成したラクタムが添加した強酸と塩を形成するために、強酸を過剰に用いることが常である。従って、反応生成液からε-カプロラクタムを分離するときの中和工程で、アンモニア水溶液を用いるため、多量の硫酸アンモニウムが副生するという問題がある。



上記問題を解決するために、本発明者らは、単独で用いた場合には活性の低い触媒量(10mol%程度)のコバルト塩やニッケル塩を、10~20mol%の触媒量のルイス酸、ブレンステッド酸、酸無水物、あるいは酸塩化物などと組み合わせて使用することにより、副生成物の生成を抑制して高選択率でアミド化合物を製造できることを見出した。この方法においては、生成したアミド化合物を最も効率良く取り出すためには、従来法と同様に塩基処理をすることが好ましいが、塩基処理により副生する無機塩は1/5~1/3以下に減じることができる(特許文献1乃至4)。



その他にも、ベックマン転位反応に用いる触媒に関しては、種々、検討されている。例えば、N,N-ジメチルホルムアミドとクロロスルホン酸から生成するイオン対(ビルスマイヤー錯体)からなる触媒(非特許文献1)、エポキシ化合物と強酸(三フッ化ホウ素・エーテラート等)から生成するアルキル化剤、及びN,N-ジアルキルホルムアミドからなる触媒(非特許文献2)、リン酸若しくは縮合性リン酸化合物からなる触媒(特許文献5)、N,N-ジアルキルホルムアミド等の化合物、五酸化リン、及び含フッ素強酸若しくはその誘導体からなる触媒(特許文献6)、インジウムトリフラート(非特許文献3)、イッテルビウムトリフラート(非特許文献4)等の触媒などが知られている。

産業上の利用分野


本発明は、アミド化合物の製造する方法に関し、特に、オキシム化合物をベックマン転位反応させることによりアミド化合物を製造する方法に関する。

特許請求の範囲 【請求項1】
オキシム化合物をベックマン転位反応させることによりアミド化合物を製造する方法において、
(A)コバルト塩及びニッケル塩のうちいずれか1以上、(B)マグネシウム塩及びナトリウム塩のうちいずれか1以上、並びに(C)シリカゲルから構成される触媒の存在下でベックマン転位反応させることを特徴とするアミド化合物の製造方法。

【請求項2】
前記触媒の(A)成分が、テトラフルオロホウ酸コバルト六水和物及びテトラフルオロホウ酸ニッケル六水和物のうちいずれか1以上であることを特徴とする請求項1記載のアミド化合物の製造方法。

【請求項3】
前記触媒の(B)成分が、硫酸マグネシウム、塩化マグネシウム、硝酸マグネシウム六水和物、硫酸水素ナトリウム、硫酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム及び炭酸ナトリウムのうちいずれか1以上であることを特徴とする請求項1又は2記載のアミド化合物の製造方法。

【請求項4】
前記ベックマン転位反応後に、塩基処理を行うことなくアミド化合物を回収することを特徴とする請求項1乃至3いずれか記載のアミド化合物の製造方法。
国際特許分類(IPC)
Fターム
出願権利状態 公開
山口TLOは平成11年11月に山口大学の教官50名の出資により設立された、リエゾン一体型のTLO活動会社です。山口大学を主とし、山口県内の大学・高専の研究成果をご紹介致します。特許の内容に興味を持たれた方は、下記までご連絡ください。


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