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化合物、表面処理剤、及び表面処理方法 コモンズ

国内特許コード P170013661
整理番号 P2016-094826
掲載日 2017年1月25日
出願番号 特願2016-094826
公開番号 特開2016-210778
出願日 平成28年5月10日(2016.5.10)
公開日 平成28年12月15日(2016.12.15)
優先権データ
  • 特願2015-096874 (2015.5.11) JP
発明者
  • 山口 和夫
出願人
  • 学校法人神奈川大学
発明の名称 化合物、表面処理剤、及び表面処理方法 コモンズ
発明の概要 【課題】表面処理剤としての使用に適した安定性の高い新規な化合物、該化合物を含有する表面処理剤及び表面処理方法の提供。
【解決手段】下記式(I)で表される化合物。



(R~Rはそれぞれ独立にH、アルキル基、又は置換基としてパーフルオロアルキル基を有してもよいアルコキシ基;RはH又は置換基としてハロゲン原子を有してもよいC1~6アルキル基;Xは-OCONH-、-OCOS-、-OCOO-、-NH-、-S-、-O-、-OCO-のいずれかで表される基;RはXが-OCO-以外である場合アルキレン基であり、Xが-OCO-である場合単結合又はアルキレン基である。)
【選択図】図1
従来技術、競合技術の概要


従来より、無機材料等の表面を化学的修飾による表面処理を行うことで、無機材料等の表面に様々な特性を与えることができる表面処理剤が開発されている。中でも、光分解性の保護基を有する表面処理剤は、光照射により脱保護ができるため、表面の修飾を容易に行うことができ、また、マスキングによって位置選択性を容易にすることができるため、表面改質の時空間的制御が可能である。



一方、ホスホン酸誘導体は、表面処理剤として使用した場合に、安定な自己組織化単分子膜(SAM)を形成できることから、近年注目されている。



例えば、特許文献1には、光分解性の2-ニトロベンジルエステルとしてカルボン酸を保護したベンジルホスホン酸誘導体が開示されている。

産業上の利用分野


本発明は、化合物、表面処理剤、及び表面処理方法に関する。

特許請求の範囲 【請求項1】
下記式(I)で表される化合物。
【化1】


(R~Rは、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、又は置換基としてパーフルオロアルキル基を有してもよいアルコキシ基であり、
は、水素原子又は、置換基としてハロゲン原子を有してもよい炭素数が1~6であるアルキル基であり、
Xは、以下の式(II)~(VIII)のいずれかで表される基であり、
は、前記Xが以下の式(II)~(VII)のいずれかで表される基である場合、アルキレン基であり、前記Xが以下の式(VIII)で表される基である場合、単結合又はアルキレン基である。)
【化2】


【化3】


【化4】


【化5】


【化6】


【化7】


【化8】



【請求項2】
前記Rが、イソプロピル基である、請求項1に記載の化合物。

【請求項3】
請求項1又は2に記載の化合物を含有する表面処理剤。

【請求項4】
請求項1又は2に記載の化合物を用いて処理対象物の表面を処理する工程を有する、表面処理方法。
国際特許分類(IPC)
Fターム
画像

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JP2016094826thum.jpg
出願権利状態 公開
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