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原子状水素発生器、原子状水素の製造方法および原子状水素の発生を確認する方法 UPDATE

国内特許コード P170013681
整理番号 S2015-1588-N0
掲載日 2017年2月1日
出願番号 特願2015-111987
公開番号 特開2016-222508
出願日 平成27年6月2日(2015.6.2)
公開日 平成28年12月28日(2016.12.28)
発明者
  • 高山 光男
  • 関本 奏子
  • 三舩 千佳
出願人
  • 公立大学法人横浜市立大学
発明の名称 原子状水素発生器、原子状水素の製造方法および原子状水素の発生を確認する方法 UPDATE
発明の概要 【課題】従来技術よりも低温で、しかも大気中で、原子状水素を生成する手段、および原子状水素の存否を確認する方法を提供する。
【解決手段】反応チャンバ1と、反応チャンバ1内に4.5eV以上の光を含む光を照射可能な光源2と、反応チャンバ1内に水素分子と不活性ガスとの混合気体を供給可能な供給部3と、を備える原子状水素の製造装置100。C-F結合を有する物質に被検気体を接触させて第1気体を得て、前記第1気体に含まれる物質と、大気圧コロナ放電イオン化により生成した反応イオンとを反応させ、得られた生成物質を、衝突誘起解離を含む質量分析により分析して、質量20のフッ化水素を含むプリカーサーイオンおよびプロダクトイオンの少なくとも一方が存在していることに基づくピークが検出された場合に、前記被検気体中に原子状水素が含まれていたと判定する確認方法。
【選択図】図1
従来技術、競合技術の概要


原子状水素は、半導体製造関連技術において基板洗浄の目的で使用されたり、タンパク質のアミノ酸配列を調べるためにタンパク質のアミド結合を解離させるための手段として用いられたりしている。



原子状水素を発生させる方法として、特許文献1には、処理室内に収容された処理対処物に原子状水素を接触させて表面処理を行う原子状水素処理装置に用いられ、水素ガス供給部より供給される水素ガスから前記原子状水素を発生する原子状水素発生器であって、内部に前記原子状水素を発生する発生室が形成され、前記発生室を真空排気するための排気口、前記水素ガスを前記発生室に導入するためのガス導入口、発生した原子状水素を前記処理室に送給するための原子状水素放出口および前記原子状水素放出口を前記処理室に真空密に接続するための接続部が設けられた容器と、前記発生室の内部に着脱自在に装着され、発熱状態において前記水素ガスが接触することにより前記水素ガスから原子状水素を発生させる発熱体とを備えたことを特徴とする原子状水素発生器が開示されている。



特許文献2には、水素ラジカルを用いて異物が付着したEUV露光装置をクリーニングする方法において、水素含有ガスを、1000~1600℃に加熱したモリブデン又はモリブデン合金に接触させて得られ、且つ、水素ラジカルの密度が1×10~1×1016/cmの範囲にある水素ラジカル含有ガスを用いることを特徴とするEUV露光装置のクリーニング方法が開示されている。



非特許文献1には、マトリックス支援レーザー脱離/イオン化質量分析法を使い、真空中で紫外レーザー光を有機分子(マトリックス)に照射し、水素原子を放出させる方法が開示されている。

産業上の利用分野


本発明は、原子状水素発生器、原子状水素の製造方法および原子状水素の存否を確認する方法に関する。

特許請求の範囲 【請求項1】
反応チャンバと、
前記反応チャンバ内に4.5eV以上の光を含む光を照射可能な光源と、
前記反応チャンバ内に水素分子と不活性ガスとの混合気体を供給可能な供給部と、
を備えることを特徴とする原子状水素の製造装置。

【請求項2】
前記不活性ガスは窒素ガスを含み、前記光源が照射可能な光は9eV以上の光を含まない、請求項1に記載の原子状水素の製造装置。

【請求項3】
前記反応チャンバ内に生成した原子状水素と反応するための試料を保持する保持部を前記反応チャンバ内にさらに備える、請求項1または2に記載の原子状水素の製造装置。

【請求項4】
前記反応チャンバ内に生成した原子状水素を含む気体を前記反応チャンバ外に導出する導出部をさらに備える、請求項1から3のいずれか一項に記載の原子状水素の製造装置。

【請求項5】
水素分子と不活性ガスとの混合気体がその内部に存在する反応チャンバ内に、4.5eV以上の光を含む光を照射して、前記反応チャンバ内に原子状水素を発生させることを特徴とする原子状水素の製造方法。

【請求項6】
前記不活性ガスは窒素ガスを含み、前記光源が照射可能な光は9eV以上の光を含まない、請求項5に記載の原子状水素の製造方法。

【請求項7】
前記反応チャンバ内で生成した原子状水素は、前記反応チャンバ内に配置された試料と反応可能とされる、請求項5または6に記載の原子状水素の製造方法。

【請求項8】
前記反応チャンバ内で生成した原子状水素を含む気体は、前記反応チャンバ外に導出可能とされる、請求項5から7のいずれか一項に記載の原子状水素の製造方法。

【請求項9】
被検気体中に原子状水素が含まれているか否かを確認する方法であって、
C-F結合を有する物質に前記被検気体を接触させて第1気体を得て、
前記第1気体に含まれる物質と、大気圧コロナ放電イオン化により生成した反応イオンとを反応させ、
得られた生成物質を、衝突誘起解離を含む質量分析により分析して、
質量20のフッ化水素を含むプリカーサーイオンおよびプロダクトイオンの少なくとも一方が存在していることに基づくピークが検出された場合に、前記被検気体中に原子状水素が含まれていたと判定すること
を特徴とする原子状水素の存否を確認する方法。

【請求項10】
前記被検気体は、請求項4に記載される原子状水素の製造装置が備える前記導出装置から導出された気体を含む、請求項9に記載の原子状水素の存否を確認する方法。

【請求項11】
前記被検気体は、請求項8に記載される原子状水素の製造方法により前記反応チャンバ外に導出された気体を含む、請求項9に記載の原子状水素の存否を確認する方法。
国際特許分類(IPC)
Fターム
画像

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JP2015111987thum.jpg
出願権利状態 公開
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