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六方晶窒化ホウ素薄膜とその製造方法 (未公開特許出願) NEW

国内特許コード P170013698
整理番号 K203P09
掲載日 2017年2月3日
出願番号 特願2017-001291
出願日 平成29年1月6日(2017.1.6)
発明の名称 六方晶窒化ホウ素薄膜とその製造方法 (未公開特許出願) NEW
参考情報 (研究プロジェクト等) さきがけ 素材・デバイス・システム融合による革新的ナノエレクトロニクスの創成 領域
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