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シリコンナノウォール構造体およびその製造方法 (未公開特許出願)

国内特許コード P170013749
整理番号 FPV005
掲載日 2017年3月14日
出願番号 特願2017-045820
出願日 平成29年3月10日(2017.3.10)
発明者
  • 平井 政和
  • 吉葉 修平
  • 市川 幸美
出願人
  • 国立研究開発法人科学技術振興機構
発明の名称 シリコンナノウォール構造体およびその製造方法 (未公開特許出願)
発明の概要 シリコンウォールの貼り付きを生じさせずにシリコンナノウォール構造体を製造するための技術を提供する
未公開特許(まだ出願公開されていない特許)については、上記項目のみについて公開しています。詳細内容の開示にあたっては、別途、JSTと秘密保持契約を締結していただくことが必要となります。
(目的によっては開示できない場合があります。)
手続き等について、詳しくお知りになりたい方は下記「問合せ先」まで直接お問い合わせください。


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