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トリアリールメタン化合物の製造方法 NEW コモンズ

国内特許コード P170014332
整理番号 (NU-0559)
掲載日 2017年6月26日
出願番号 特願2015-545239
出願日 平成26年10月28日(2014.10.28)
国際出願番号 JP2014078653
国際公開番号 WO2015064584
国際出願日 平成26年10月28日(2014.10.28)
国際公開日 平成27年5月7日(2015.5.7)
優先権データ
  • 特願2013-224015 (2013.10.29) JP
発明者
  • 南保 正和
  • クラッデン キャサリン
出願人
  • 国立大学法人名古屋大学
発明の名称 トリアリールメタン化合物の製造方法 NEW コモンズ
発明の概要 式:CHArArSOAr(Ar、Ar及びArは置換又は無置換の芳香族基)で示されるジアリールメチルアリールスルホン化合物と、式:Ar-B(OH)(Arは置換又は無置換の芳香族基)で示されるアリールボロン酸又はそのエステル化合物とを、パラジウム触媒及び含窒素複素環式カルベン配位子の存在下で反応させることで、種々のトリアリールメタン化合物を高収率且つ少ない工程で製造する。
従来技術、競合技術の概要


トリアリールメタン化合物及びその関連構造の合成は、医薬品化学及び材料科学の分野で非常に興味を持たれている。



実際、トリアリールメタン化合物は、染料、蛍光プローブ、天然物及び生物学的活性化合物等、種々の分野で利用されている。



芳香環に対してアルキル基又はアシル基が求電子置換する反応であるフリーデル・クラフツ反応は、トリアリールメタン構造の構築法として簡易で汎用されている(例えば、非特許文献1等)が、しばしば望ましくない位置異性体を生成することがあり、また、求電子置換反応であるが故に芳香環が電子求引性基を有していると反応が起きない。しかも、合成できるトリアリールメタン化合物の種類は制限されており、種々のトリアリールメタン化合物を合成することはできない。



また、トリアリールメタン化合物の合成法としては、トリアリールメタノールの脱ヒドロキシル化反応が一般的な手順であった(例えば、非特許文献2等)が、多段階合成であり、工程数が非常に多いため、簡便な方法ではない。



最近、前記の欠点を解決するため、遷移金属触媒を用いた試みがいくつか報告されている。これらの報告のうち、パラジウム触媒クロスカップリング反応に関する報告としては、例えば、非特許文献3及び特許文献1が挙げられ、金属触媒によるC-H結合のアリール化反応に関する報告としては、例えば、非特許文献4及び特許文献2が挙げられ、エナンチオ選択的経路に関する報告としては、例えば、非特許文献5が挙げられる。



特に非特許文献3には、ジアリールメチルアリールスルホン化合物とアリールボロン酸化合物とを、代表的なホスフィン類(一座若しくは二座ホスフィン配位子)又はアミン配位子とパラジウム源からなる触媒前駆体を用いて反応させるとトリアリールメタン化合物が得られることが開示されているが、原料のジアリールメチルアリールスルホン化合物の1つのアリール基は3-インドリル基に限定されており、含窒素複素環式カルベン配位子については何ら言及されていない。また、この反応は、酸素、湿気等に対して不安定な触媒を使用せざるを得ないうえに、原料の調製のみならず反応剤の調製にも多段階合成を必要とすることから、少ない工程でトリアリールメタン化合物を合成することができない。

産業上の利用分野


本発明は、トリアリールメタン化合物の製造方法に関する。

特許請求の範囲 【請求項1】
一般式(1):
【化1】


[式中、Ar、Ar及びArは同じか又は異なり、それぞれ置換又は無置換の芳香族基である。]
で示されるトリアリールメタン化合物の製造方法であって、
(III)一般式(2):
【化2】


[式中、Ar及びArは前記に同じ;Arは置換又は無置換の芳香族基である。]
で示されるジアリールメチルアリールスルホン化合物と、
一般式(3):
【化3】


[式中、Arは前記に同じ;R及びRは同じか又は異なり、それぞれアルキル基;RとRは互いに結合し、隣接する-O-B-O-とともに環を形成してもよい。]
で示されるアリールボロン酸又はそのエステル化合物とを、パラジウム触媒及び含窒素複素環式カルベン配位子の存在下で反応させる工程
を備える、製造方法。

【請求項2】
前記工程(III)が、塩基の存在下で行われる、請求項1に記載の製造方法。

【請求項3】
前記塩基が金属アルコキシド、リン酸アルカリ金属塩及びアルカリ金属水酸化物よりなる群から選ばれる少なくとも1種である、請求項2に記載の製造方法。

【請求項4】
前記工程(III)が、反応溶媒の存在下で行われる、請求項1~3のいずれかに記載の製造方法。

【請求項5】
前記反応溶媒がジオキサンを含有する、請求項4に記載の製造方法。

【請求項6】
前記工程(III)の前に、
(II)一般式(4):
Ar-CH-SO-Ar (4)
[式中、Ar及びArは前記に同じである。]
で示されるアリールメチルアリールスルホン化合物と、
一般式(7):
Ar-X (7)
[式中、Arは前記に同じ;Xはハロゲン原子である。]
で示されるハロゲン化アレーン化合物とを、パラジウム触媒及びホスフィン配位子の存在下で反応させる工程
を備える、請求項1~5のいずれかに記載の製造方法。

【請求項7】
前記工程(II)が、塩基の存在下で行われる、請求項6に記載の製造方法。

【請求項8】
前記工程(II)の前に、
(I)一般式(5):
CH-SO-Ar (5)
[式中、Arは前記に同じである。]
で示されるメチルアリールスルホン化合物と、
一般式(6):
Ar-X (6)
[式中、Arは前記に同じ;Xはハロゲン原子である。]
で示されるハロゲン化アレーン化合物とを、パラジウム触媒及びホスフィン配位子の存在下で反応させる工程
を備える、請求項6又は7に記載の製造方法。

【請求項9】
前記工程(I)が、塩基の存在下で行われる、請求項8に記載の製造方法。

【請求項10】
一般式(2a):
【化4】


[式中、Ar1a、Ar2a及びArは同じか又は異なり、それぞれ置換又は無置換の芳香族基;ただし、Ar1a及び/又はAr2aはベンジルオキシ基で置換された芳香族基である。]
で示されるジアリールメチルアリールスルホン化合物。
国際特許分類(IPC)
Fターム
出願権利状態 公開
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