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PRODUCTION METHOD OF HOLLOW SILICA PARTICLE commons meetings

Patent code P170014595
File No. T2014-043
Posted date Sep 20, 2017
Application number P2014-166604
Publication number P2016-041643A
Date of filing Aug 19, 2014
Date of publication of application Mar 31, 2016
Inventor
  • (In Japanese)酒井 秀樹
  • (In Japanese)阿部 正彦
  • (In Japanese)遠藤 健司
  • (In Japanese)大木 貴仁
  • (In Japanese)相馬 央登
  • (In Japanese)小倉 卓
Applicant
  • (In Japanese)学校法人東京理科大学
Title PRODUCTION METHOD OF HOLLOW SILICA PARTICLE commons meetings
Abstract PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a production method of hollow silica particles having excellent dispersibility in an aqueous solvent.
SOLUTION: The production method of hollow silica particles of the present invention, includes: a vesicle formation step of forming a vesicle from an aqueous solution containing a surfactant that has an ability of producing a vesicle at a pH of 9.0 to 11.7 to obtain a first aqueous dispersion containing the vesicle; a silica precursor addition step of adding a silica precursor to the first aqueous dispersion to obtain a second aqueous dispersion containing the vesicle and the silica precursor; a pH adjustment step of adjusting the pH of the second aqueous dispersion to 6.0 to 8.5; and a hydrothermal process step of subjecting the second aqueous dispersion after the pH adjustment step to a hydrothermal reaction to obtain hollow silica particles.
Outline of related art and contending technology (In Japanese)


近年、界面活性剤が形成する分子集合体を鋳型として用い、メソポーラス金属酸化物を合成する方法が報告された(非特許文献1)。このようなメソポーラス金属酸化物は、高比表面積であり、均一な細孔を有するため、触媒担体、香粧品等、多岐にわたる分野での利用が期待されている。



しかしながら、上記の方法で得られたメソポーラス金属酸化物の形状は、鋳型である界面活性剤が形成する分子集合体の形状に依存するため、使用目的によってはその効果を十分に得ることができないという問題もあった。



したがって、従来のメソポーラス金属酸化物とは異なる新しい形状の金属酸化物の製造方法を案出し、これにより得られた生成物の物性を調べ、その利用を図ることが求められていた。このような求めに応じて、新しい形状の金属酸化物の製造方法が報告されている(例えば、特許文献1を参照)。

Field of industrial application (In Japanese)


本発明は、中空シリカ粒子の製造方法に関する。

Scope of claims (In Japanese)
【請求項1】
 
pH9.0~11.7で、ベシクルの生成能力を備えた界面活性剤を含有する水溶液からベシクルを形成して、前記ベシクルを含有する第一水性分散液を得るベシクル形成工程と、
前記第一水性分散液にシリカ前駆体を添加して、前記ベシクルと前記シリカ前駆体とを含有する第二水性分散液を得るシリカ前駆体添加工程と、
前記第二水性分散液のpHを6.0~8.5に調整するpH調整工程と、
前記pH調整工程後に、前記第二水性分散液を水熱反応に付して、中空シリカ粒子を得る水熱処理工程と、
を含む中空シリカ粒子の製造方法。

【請求項2】
 
更に、前記pH調整工程と前記水熱処理工程との間に、前記第二水性分散液を撹拌する撹拌工程を含む請求項1に記載の中空シリカ粒子の製造方法。

【請求項3】
 
更に、前記水熱処理工程で得た中空シリカ粒子を焼成する焼成工程を含む請求項1又は2に記載の中空シリカ粒子の製造方法。
IPC(International Patent Classification)
F-term
Drawing

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JP2014166604thum.jpg
State of application right Published
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