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フェノール系化合物の製造方法 NEW コモンズ

国内特許コード P170014633
整理番号 DP1708
掲載日 2017年10月24日
出願番号 特願2015-184828
公開番号 特開2017-057177
出願日 平成27年9月18日(2015.9.18)
公開日 平成29年3月23日(2017.3.23)
発明者
  • 小寺 政人
  • アントニウス アンドレ ザオプトラ
  • 辻 朋和
出願人
  • 学校法人同志社
発明の名称 フェノール系化合物の製造方法 NEW コモンズ
発明の概要 【課題】芳香族化合物を直接酸化してフェノール系化合物を効率よく製造する方法を提供する。
【解決手段】下記式(I)または(II)で示される化合物を配位子とする二核ニッケル錯体の存在下で、酸化剤により、芳香族化合物を酸化してフェノール系化合物を製造する。



【選択図】なし
従来技術、競合技術の概要


フェノールの製造は、ベンゼンを原料として行われているが、ベンゼンは最もシンプルな構造の芳香族炭化水素であるため、安定性が非常に高く、反応性に乏しい。このため、現在は、ベンゼンの直接酸化ではなく、クメン(イソプロピルベンゼン)を経由して、クメンの酸化によりフェノールを製造しているが、このクメン法は、高温高圧を必要とする多段階方法であるため、フェノールの製造方法としては非効率的である。そのため、ベンゼンを直接的にフェノールに変換(酸化)する方法の開発が望まれている。



最近、特許文献1において、4座のポリピリジン配位子のニッケル錯体を触媒として用いて、安価な過酸化水素(H22)を酸化剤として、ベンゼンからフェノールを直接製造する方法が報告されている。しかしながら、報告された反応では、700回程度の触媒回転数を得るのに200時間以上を必要としているため、より反応速度の速い方法の開発が望まれている。

産業上の利用分野


本発明は、芳香族化合物からフェノール系化合物を製造する方法に関する。より具体的には、本発明は、特定の二核ニッケル錯体を用いて芳香族化合物を直接酸化してフェノール系化合物を製造する方法に関する。

特許請求の範囲 【請求項1】
下記式(I)または(II)で示される化合物を配位子とする二核ニッケル錯体の存在下で、酸化剤により、芳香族化合物を酸化してフェノール系化合物を製造する方法。
【化1】



【請求項2】
前記酸化剤が過酸化水素であり、前記芳香族化合物がベンゼンである、請求項1に記載の方法。

【請求項3】
請求項1に記載の式(I)または(II)で示される化合物を配位子とする二核ニッケル錯体からなる酸化触媒。

【請求項4】
請求項1に記載の式(II)で示される二核配位子。
国際特許分類(IPC)
Fターム
出願権利状態 公開
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