TOP > 国内特許検索 > はっ水性被膜の評価方法

はっ水性被膜の評価方法 コモンズ 外国出願あり

国内特許コード P03A000443
整理番号 U2000P247
掲載日 2003年8月28日
出願番号 特願2001-177046
公開番号 特開2002-363501
登録番号 特許第3834609号
出願日 平成13年6月12日(2001.6.12)
公開日 平成14年12月18日(2002.12.18)
登録日 平成18年8月4日(2006.8.4)
発明者
  • 杉村 博之
  • 高井 治
出願人
  • 国立大学法人名古屋大学
発明の名称 はっ水性被膜の評価方法 コモンズ 外国出願あり
発明の概要 高いはっ水性を有する膜を提供すること、及び該膜を低温で得られる方法を提供することを課題とする。本発明のはっ水性被膜は、複数の微細孔を有する膜であって、微細孔のアスペクト比が0.1以上である膜と、前記膜上の疎水性膜と、からなることを特徴とする。また、本発明のはっ水性被膜の形成方法は、2以上の高分子物質を基体上に被膜することにより、基体上に混合高分子膜を形成し、前記混合高分子膜から少なくとも1の前記高分子物質を除去することにより、複数の微細孔を有する膜を形成し、前記複数の微細孔を有する膜上に疎水性膜を形成することからなることを特徴とする。
従来技術、競合技術の概要
水をはじく、いわゆる「はっ水性」を有する材料の研究が盛んに行なわれている。この理由として、比較的降雨量の多い地域では、自動車部品、建築部材、または被覆素材などの産業分野で優れたはっ水性を示す材料に対する需要が高いことを挙げることができる。
【0003】
現在、膜のはっ水加工には、主としてフッ素系樹脂が使用されている。これらフッ素系樹脂を、溶剤等に溶解してはっ水性を付与する方法が知られている。
【0004】
また、基体表面にはっ水性を付与するために、プラズマCVD、ゾルゲル法などによって被膜する方法が知られている。
産業上の利用分野
本発明は、はっ水性被膜の評価方法に関し、特に、微細孔を有する被膜からなるはっ水性被膜の評価方法に関する。
特許請求の範囲 【請求項1】 断面形状が複数の微細な凹凸構造で、前記凹凸構造のアスペクト比の平均によるRas値が0.1以上である膜と、前記膜上の疎水性膜と、からなるはっ水性被膜の評価方法であって、
前記Ras値は、前記膜の断面につき、凹凸の高さの平均線を下回る隣り合う凹部間の距離(w)で、凹部同士の間にある最も高い凸部からどちらか最も低い凹部までの距離(h)を割り、そのh/w(=a)のn(nは、膜の断面について前記h/wが求められた任意の数)個の平均値により求められ、前記Ras値が0.1以上であり、前記微細凹凸構造の深さが、1μm以下である場合に前記膜上の疎水性膜の水滴接触角が、平板上の疎水性膜そのものの水滴接触角より高いはっ水性を示すと評価するはっ水性被膜の評価方法。
【請求項2】 前記複数の微細凹凸構造を有する膜が、開孔面積が大小異なる微細凹凸構造を有し、前記大きい開孔面積を有する微細凹構造の深さのバラツキが100nm以下の範囲内にあることを特徴とする請求項1記載の方法。
【請求項3】 前記大きい開孔面積を有する微細凹構造の深さが、平均500nm以下である請求項1又は2項に記載の方法。
産業区分
  • 塗料・接着剤
  • その他無機化学
  • 高分子化合物
国際特許分類(IPC)
Fターム
出願権利状態 権利存続中
ライセンスをご希望の方、特許の内容に興味を持たれた方は、問合せボタンを押してください。


PAGE TOP

close
close
close
close
close
close
close