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微細構造パターンの形成方法

国内特許コード P03A000550
整理番号 U1999P023
掲載日 2003年11月18日
出願番号 特願平11-159436
公開番号 特開2001-003176
登録番号 特許第3198302号
出願日 平成11年6月7日(1999.6.7)
公開日 平成13年1月9日(2001.1.9)
登録日 平成13年6月15日(2001.6.15)
発明者
  • 宇理須 恒雄
出願人
  • 大学共同利用機関法人自然科学研究機構
発明の名称 微細構造パターンの形成方法
発明の概要 nmオーダの微細な構造パターンを再現性よく量産することが可能な新たな形成方法を提供する。基板2の一方の主面2A上にレジスト膜3を形成する。次いで、X線露光用マスク1を介してX線4をレジスト膜3に照射し、露光パターン5を形成する。次いで、レジスト膜3に現像処理を施すことにより、露光パターン5を選択的に除去してレジストパターン6を形成する。次いで、真空紫外線吸収材料からなる被処理部材7を、レジストパターン6を覆うようにして基板2の主面2A上に形成する。次いで、被処理部材7に真空紫外光領域に波長ピークを有する電子シンクロトロン放射光8を照射して、分解金属膜を析出させる。そして、レジストパターン6を除去することにより、析出した金属膜9がレジストパターン6のピッチの挟間に堆積してなる微細構造パターン10を形成する。
従来技術、競合技術の概要 ナノメータの寸法の微細パタンを形成する従来の方法としては、微細なスポットに絞った電子ビームを利用して基板表面の酸化膜の膜質を微細な領域だけ改質する方法、基板表面の微細な領域だけ膜を形成する方法、走査型トンネル電子顕微鏡(SYM)により同様に微細な構造を形成する方法、又は放電プラズマを用いたエッチングを用いた方法、放電プラズマを用いた膜形成の方法などがある。
産業上の利用分野 微細構造パターンの形成方法、さらに詳しくは、半導体材料、高分子材料、セラミックス材料、有機材料などの表面あるいは表面層に数nmから数十nmの寸法の極めて微細構造パターンを形成する方法
特許請求の範囲 【請求項1】 基板の主面上にレジスト膜を形成する工程と、前記レジスト膜に対し所定のマスクパターンを介してX線を照射し、現像処理を施すことにより、レジストパターンを形成する工程と、前記レジストパターン上に真空紫外光吸収材料からなる被処理部材を形成する工程と、前記被処理部材に真空紫外光を照射することにより前記被処理部材を分解して金属膜を析出させた後、前記レジストパターンを除去することにより、前記基板上に前記紫外線吸収材料からなる微細な構造パターンを形成する工程と、を含むことを特徴とする、微細構造パターンの形成方法。
【請求項2】 前記真空紫外線吸収材料は、有機金属化合物からなることを特徴とする、請求項1に記載の微細構造パターンの形成方法。
【請求項3】 前記真空紫外光の波長は、前記真空紫外線吸収材料の最大吸収波長に同調させたことを特徴とする、請求項1又は2に記載の微細構造パターンの形成方法。
【請求項4】 前記真空紫外光は、電子シンクロトロン放射光であることを特徴とする、請求項1~3のいずれか一に記載の微細構造パターンの形成方法。
【請求項5】 前記真空紫外光の偏光は、前記被処理部材の配向方向に対応させて選択したことを特徴とする、請求項1~4のいずれか一に記載の微細構造パターンの形成方法。
【請求項6】 請求項1~5のいずれか一に記載の方法によって形成された微細構造パターンをマスクとして所定の部材にエッチング処理を施し、前記微細構造パターンに応じた微細構造を有する部材を形成することを特徴とする、微細構造部材の形成方法。
【請求項7】 前記エッチング処理は、エッチングガスに真空紫外光を照射吸収させ、前記エッチングガスを分解又は励起させてなる活性分子を用いることを特徴とする、請求項6に記載の微細構造部材の形成方法。
【請求項8】 請求項1~5のいずれか一に記載の方法によって形成された微細構造パターンをマスクとして所定の部材にエッチング処理を施し、前記微細構造パターンに応じた微細構造を有する部材を形成するとともに、この部材を選択結晶成長のマスクとして用いることにより所定の基材上に単結晶をエピタキシャル成長させ、前記基材上に前記微細構造パターンに応じた微細構造を有する単結晶を形成することを特徴とする、単結晶微細構造の形成方法。
【請求項9】 前記エッチング処理は、エッチングガスに真空紫外光を照射吸収させ、前記エッチングガスを分解又は励起させてなる活性分子を用いることを特徴とする、請求項8に記載の単結晶微細構造の形成方法。
産業区分
  • 表面処理
  • 固体素子
国際特許分類(IPC)
Fターム
画像

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出願権利状態 権利存続中
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