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異方性解析方法及び異方性解析装置

国内特許コード P03A001925
整理番号 U2000P105
掲載日 2003年10月1日
出願番号 特願2000-323520
公開番号 特開2002-131225
登録番号 特許第3479685号
出願日 平成12年10月24日(2000.10.24)
公開日 平成14年5月9日(2002.5.9)
登録日 平成15年10月10日(2003.10.10)
発明者
  • 長谷川 富市
出願人
  • 学校法人新潟大学
発明の名称 異方性解析方法及び異方性解析装置
発明の概要 比較的簡易な測定系で、空間の一定領域に亘る同時測定を可能とする新規な異方性解析方法及び異方性解析装置を提供することを目的とする。レーザ光源1から発せられたレーザ光をハーフミラー2で2分割し、分割された一方の光の偏光面を半波長板7で90度回転させて分割された他方の光の偏光面と直交させた後、これらを重畳させて試料Aに入射させる。試料Aを透過した後、偏光ビームスプリッタ5で再度分離し、前記分割された他方の光の偏光面を半波長板8で90度回転させて前記分割された一方の光の偏光面と一致させ、ハーフミラー4で再度重畳させた後、干渉によって生じた干渉縞をスクリーン6上に投影する。
従来技術、競合技術の概要 従来、粘弾性流体の法線応力差などの異方性を測定及び解析するためには、一本の光を電気的に変調し、又は機械的操作を行って偏光面が90度異なる複数の光を時間的に交互に生成させ、これらの光を前記粘弾性流体に入射させて、透過してきた前記複数の光を解析することにより実施していた。従って、透過してきた前記複数の光を一定の出力信号として電気的に検出するためには、これらを電気的な同期を行う必要があった。このため、測定系全体が複雑となるとともに、高額な計器が必要された。さらに、上記のような方法においては、空間のある一定領域に亘る同時計測を実施することはできなかった。
産業上の利用分野 光の干渉を利用した物質の異方性解析方法及び異方性解析装置、さらに詳しくは、粘弾性流体などにおける応力状態の異方性観測などに好適に用いることのできる異方性解析方法及びこの方法に用いる異方性解析装置
特許請求の範囲 【請求項1】 偏光面が互いに所定の角度をなして交差する同一波長の2つの光を、異方性を測定すべき試料の同一部分に同時に入射させるとともに、前記試料を透過してきた前記2つの光の一方の偏光面を前記所定の角度回転させることにより、前記2つの光の前記一方の偏光面を前記2つの光の他方の偏光面と一致させた状態で前記2つの光を重畳させ、この重畳させた光の干渉縞を観察することにより、前記試料の異方性を解析することを特徴とする、異方性解析方法。
【請求項2】 前記2つの光を重畳させた状態において、前記試料に入射させることを特徴とする、請求項1に記載の異方性解析方法。
【請求項3】 前記2つの光を互いに交差するようにして、前記試料の前記同一部分に同時に入射させることを特徴とする、請求項1に記載の異方性解析方法。
【請求項4】 前記所定の角度は、90度であることを特徴とする、請求項1~3のいずれか一に記載の異方性解析方法。
【請求項5】 異方性を測定すべき試料の前方において、異方性を測定するための光を発生させるレーザ光源と、このレーザ光源から発せられた光を分割する光分割手段と、分割された一方の光の偏光面を所定の角度回転させるための第1の偏光面回転手段と、前記第1の偏光面回転手段の後方に、前記分割された一方の光及び前記分割された他方の光を同一光路上で重畳させるための追加の光重畳手段とを具え、異方性を測定すべき前記試料の後方において、前記分割された一方の光又は分割された他方の光を前記所定の角度回転させて両者の偏光面を一致させるための第2の偏光面回転手段と、前記分割された一方の光及び前記分割された他方の光を重畳させるための光重畳手段と、この重畳された光の干渉縞を投影するための光投影手段とを具えることを特徴とする、異方性解析装置。
【請求項6】 異方性を解析すべき前記試料の後方において、前記第2の偏光面回転手段の前方に、重畳された前記光を前記分割された一方の光及び前記分割された他方の光に分離する光分離手段とを具えることを特徴とする、請求項5に記載の異方性解析装置。
【請求項7】 前記第1の偏光面回転手段及び前記第2の偏光面回転手段の少なくとも一方は、半波長板であることを特徴とする、請求項5又は6に記載の異方性解析装置。
【請求項8】 前記光分割手段及び前記光重畳手段の少なくとも一方は、ハーフミラーであることを特徴とする、請求項5~7のいずれか一に記載の異方性解析装置。
【請求項9】 前記追加の光重畳手段は、ハーフミラーであることを特徴とする、請求項5~8のいずれか一に記載の異方性解析装置。
【請求項10】 前記光分離手段は、偏光ビームスプリッタであることを特徴とする、請求項6~9のいずれか一に記載の異方性解析装置。
産業区分
  • 試験、検査
  • 測定
国際特許分類(IPC)
Fターム
出願権利状態 権利存続中
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