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広帯域波長可変超短パルス光発生装置 コモンズ

国内特許コード P03A002995
整理番号 Y99-P225
掲載日 2003年12月22日
出願番号 特願2000-023974
公開番号 特開2001-217494
登録番号 特許第4066120号
出願日 平成12年2月1日(2000.2.1)
公開日 平成13年8月10日(2001.8.10)
登録日 平成20年1月18日(2008.1.18)
発明者
  • 後藤 俊夫
  • 西澤 典彦
出願人
  • 国立研究開発法人科学技術振興機構
発明の名称 広帯域波長可変超短パルス光発生装置 コモンズ
発明の概要 【課題】 励起光源の波長と光ファイバの特性を適合させてアンチストークスパルスを効率よく生成させ、安定的に広い波長領域をカバーする測定を行うことができる広帯域波長可変超短パルス光発生装置を提供する。
【解決手段】 フェムト秒ファイバレーザー1から出射される短パルス光は、光強度調整器2において強度が調整され、波長分散を調整した定偏波光ファイバ4に入射される。この定偏波光ファイバ4の波長分散がゼロに近いとき、光ファイバ中の非線形光学効果によって、長波長側にシフトするストークスパルス7とともに短波長側にシフトするアンチストークスパルス5が生成される。
従来技術、競合技術の概要


従来、超短パルス光は色素レーザーや固体レーザーを用いて生成されてきたが、光学系が大掛かり、且つ、複雑で、波長の可変範囲も数十nmと狭いものであった。



また、本願発明者らによって提案された、入射光(励起光)強度に対し波長が線形にシフトする波長可変ソリトンパルス発生装置(特願平10-275604号)においては、ストークスパルスとアンチストークスパルスの生成を提案した。

産業上の利用分野


本発明は、広帯域波長可変超短パルス光発生装置に関するものである。

特許請求の範囲 【請求項1】
(a)短パルス光源と、
(b)該短パルス光源からの光の強度を調整する光強度調整器と、
(c)該光強度調整器からの入射パルスが入射される、波長分散を前記超短パルス光源の波長においてぼぼ零に近くなるように調整した光ファイバとを備え、
(d)前記光強度調整器による励起光強度の増加に伴って、長波長側に連続的に波長シフトするストークスパルスとともに、短波長側に連続的に波長シフトするアンチストークスパルスを生成することを特徴とする広帯域波長可変短パルス光発生装置。

【請求項2】
請求項1記載の広帯域波長可変短パルス光発生装置において、前記短パルス光源は、フェムト秒ファイバレーザーであることを特徴とする広帯域波長可変短パルス光発生装置。

【請求項3】
請求項記載の広帯域波長可変短パルス光発生装置において、前記フェムト秒ファイバレーザーを構成するファイバは、Er添加ファイバレーザーであることを特徴とする広帯域波長可変短パルス光発生装置。
国際特許分類(IPC)
Fターム
画像

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JP2000023974thum.jpg
出願権利状態 登録
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